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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von granularem Silizium durch thermische Zersetzung eines siliziumhaltigen Gases in einer Wirbelschicht, wobei die Zersetzung in Gegenwart von frei fließenden, mobilen Elementen durchgeführt wird. Vorzugsweise werden die frei fließenden, mobilen Elemente in einem separaten Verfahrensschritt von Silizium, das sich während der Zersetzung des siliziumhaltigen Gases darauf abgeschieden hat, durch Reaktion mit Halogenwasserstoffen, Halogenen, Alkylhalogeniden, Arylhalogeniden oder Kombinationen von Halogen und/oder Halogenwasserstoff und/oder oxidierenden mineralischen Säuren und/oder durch thermische Behandlung der Elemente befreit.
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