发明名称 FULLERENE COATED COMPONENT OF SEMICONDUCTOR PROCESSING EQUIPMENT
摘要 <p>A corrosion resistant component of semiconductor processing equipment such as a plasma chamber includes a fullerene containing surface and process for manufacturing thereof.</p>
申请公布号 WO2002053797(A1) 申请公布日期 2002.07.11
申请号 US2001043844 申请日期 2001.11.23
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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