| 主权项 |
1.一种制备光学薄膜的方法,该光学薄膜具有薄膜和薄膜框架,此方法包含:分配某份量的黏胶到薄膜上,形成相当于薄膜框架形状的图案,其系用黏胶分配器涂胶,分配器具有本体部分和分配器尖端,分配器尖端包含了用来接合分配器本体部分的第一个部分,以及向外突出于第一个部分之末端部分;将薄膜和薄膜框架两者以黏胶和框架互相对齐的方式定位;且把薄膜之黏胶覆盖部分和薄膜框架接触,以安置薄膜于薄膜框架上。2.如申请专利范围第1项之方法,其中分配的步骤包括用黏胶分配器涂胶,分配器的尖端具有可挠曲的末端部分。3.如申请专利范围第1项之方法,其中分配的步骤包括用黏胶分配器涂胶,分配器的尖端具有刚性的末端部分。4.如申请专利范围第1项之方法,其中分配器尖端之末端部分包含可挠曲管和刚性套筒,可挠曲管至少部分位于刚性套筒内且突出于刚性套筒外。5.如申请专利范围第1项之方法,其中分配的步骤包括用黏胶分配器涂胶,其操作地接近薄膜。6.如申请专利范围第5项之方法,其中分配的步骤包括用黏胶分配器涂胶,分配器的尖端具有可挠曲的末端部分。7.如申请专利范围第5项之方法,其中分配的步骤包括用黏胶分配器涂胶,分配器的尖端具有刚性的末端部分。8.如申请专利范围第5项之方法,其中分配的步骤包括用黏胶分配器涂胶,分配器具有本体部分和分配器尖端,分配器尖端包含了用来接合分配器本体部分的第一个部分,以及向外突出于第一个部分之末端部分,末端部分包含可挠曲管和刚性套筒,可挠曲管至少部分位于刚性套筒内且突出于刚性套筒外。9.如申请专利范围第1项之方法,其中选择的黏胶保持其空间和位置的整体性,且在延长的时间、搅动及暴露于例如用于薄膜检测之电磁辐射下仍保持其黏着特性。10.如申请专利范围第5项之方法,其中黏胶经分配器的涂布使得薄膜会隔折。11.一种制备光学薄膜的方法,该光学薄膜具有薄膜和薄膜框架,此方法包含:张紧薄膜;分配某份量的黏胶到薄膜上,形成相当于薄膜框架形状的图案,其系用黏胶分配器涂胶,分配器具有本体部分和分配器尖端,分配器尖端包含了用来接合分配器本体部分的第一个部分,以及向外突出于第一个部分之末端部分;且将薄膜框架接合到薄膜上,使得黏胶将薄膜黏着到薄膜框架。12.如申请专利范围第11项之方法,选择的黏胶保持其空间和位置的整体性,且在延长的时间、搅动及暴露于例如用于薄膜检测之电磁辐射下仍保持其黏着特性。13.如申请专利范围第11项之方法,其中分配的步骤包括用黏胶分配器涂胶,分配器的尖端具有可挠曲的末端部分。14.如申请专利范围第11项之方法,其中分配的步骤包括用黏胶分配器涂胶,分配器的尖端具有刚性的末端部分。15.如申请专利范围第11项之方法,其中黏胶分配器包括具有可挠曲管和刚性套筒的末端部分,让可挠曲管至少部分位于刚性套筒内且部分突出于刚性套筒外。16.如申请专利范围第11项之方法,其中分配的步骤包括用黏胶分配器涂胶,其操作地接近薄膜。17.如申请专利范围第16项之方法,其中黏胶分配器包括了具有可挠曲之末端部分的分配器尖端。18.如申请专利范围第16项之方法,其中黏胶分配器包括了具有刚性之末端部分的分配器尖端。19.如申请专利范围第16项之方法,其中黏胶分配器包括了具有可挠曲管和刚性套筒的末端部分,该可挠曲管至少部分位于刚性套筒内且部分突出于刚性套筒外。20.如申请专利范围第16项之方法,其中黏胶经分配器的涂布使得薄膜会偏折。图式简单说明:图1为依照本发明所建构的光学薄膜的上视图;图2为沿着图1线2-2之薄膜的放大截面测视图,并且为了举例说明的目的而夸大了黏着层和薄膜的厚度;图3为自由独立之薄膜的上视图;图4为习知技术系统的放大截面侧视图,显示了黏胶直接加到薄膜框架,并且为了举例说明的目的而夸大了薄膜框架和黏胶分布的不平均;图5为黏胶分配器的放大截面视图,此分配器可以用来产生图1和2中所显示的薄膜;图6为在图5中黏胶分配器之另一个具体实施例的放大截面侧视图;图7-9所例举的为图1和2中显示之薄膜的制造步骤,图7显示涂胶到膜上,图8显示薄膜框架定位于薄膜上,图9显示薄膜框架已安置到薄膜上;且图10为截面侧视图,显示施加黏胶可能使薄膜偏折,而为了例举说明之目的夸大了薄膜的厚度。 |
