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发明名称 PROCESS AND APPARATUS FOR IMPLANTING OXYGEN IONS INTO SILICON WAFERS
摘要
申请公布号 EP1221173(A1) 申请公布日期 2002.07.10
申请号 EP20000944793 申请日期 2000.06.22
申请人 IBIS TECHNOLOGY CORPORATION 发明人 DOLAN, ROBERT;CORDTS, BERNHARD;FARLEY, MARVIN;RYDING, GEOFFREY
分类号 H01J37/04;H01J37/317;H01L21/02;H01L21/265;H01L21/316;H01L27/12;(IPC1-7):H01J37/317 主分类号 H01J37/04
代理机构 代理人
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