发明名称 薄膜晶体管及其制造方法
摘要 一种多晶硅薄膜晶体管,通过对非晶硅膜多次照射激光,实现由多个晶粒构成,通过抑制邻接晶粒的边界部分中突起的发生,成为至少2个以上的晶粒集合体,在该多晶硅薄膜晶体管的至少一部分中存在(111)优先取向的簇结晶;可达到200cm<SUP>2</SUP>/V·S以上的高迁移率特性。
申请公布号 CN1357925A 申请公布日期 2002.07.10
申请号 CN01140707.7 申请日期 2001.07.20
申请人 株式会社日立制作所 发明人 田村太久夫;尾形洁;高原洋一;堀越和彦;山口裕功;大仓理;阿部广伸;斋藤雅和;木村嘉伸;糸贺敏彦
分类号 H01L29/786;H01L21/324 主分类号 H01L29/786
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 栾本生;叶恺东
主权项 1.一种薄膜晶体管,是在衬底上设置的半导体薄膜,其特征在于,所述半导体薄膜由多个晶粒构成,并且至少2个以上的所述晶粒集合的簇结晶至少存在于其一部分内。
地址 日本东京都
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