发明名称 利用光刻技术和气相沉积技术制作新型热电偶
摘要 利用光刻技术和气相沉积技术制作新型热电偶,其特征是用光刻技术和气相沉积技术制作的两种不同材质的微小薄膜有一个结合点,替代焊接在一起的两种不同材质的细长金属电偶丝。该薄膜电偶体积小、重量轻,并且有响应时间短、使用寿命长等优点,将在微电子技术和航空航天技术中得到广泛应用。
申请公布号 CN1357930A 申请公布日期 2002.07.10
申请号 CN00135030.7 申请日期 2000.12.08
申请人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 发明人 高劲松
分类号 H01L35/34;G01K7/02 主分类号 H01L35/34
代理机构 长春科宇专利代理有限责任公司 代理人 王立伟
主权项 1、利用光刻技术和气相沉积技术制作新型热电偶的方法,其特征在于本发明的具体方法如下:1.根据被测温物体的具体情况设计制作热电偶的位置、形状、大小,并完成设计图纸;2.根据图纸设计制作母板;3.在准备制作热电偶的位置上利用物理气相沉积(PVD)技术预镀导热绝缘层;4.在导热绝缘层上涂上光刻胶利用光刻技术制作掩膜;5.利用磁控溅射镀制热电偶的一种材料;6.重复4、5制作热电偶的另一种材料并使两种材料有一个结合点,从而形成一对热电偶;7.利用物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)技术镀制无机或有机保护涂层;由于利用光刻技术可以较为方便地在被测温元件上制作高精度掩膜,即可制得非常小的几何尺寸(微米级)薄膜热电偶。
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