发明名称 | 感光元件、感光元件辊、使用其的抗蚀图形的制法、抗蚀图形、抗蚀图形的积层片、布线图形的制法及布线图形 | ||
摘要 | 本发明提供一种感光元件、感光元件辊、使用其的抗蚀图形的制法、抗蚀图形、抗蚀图形的积层基片、布线图形的制法及布形图形,在由双轴取向聚酯膜及其一面上具有感光性树脂组合物层的支撑膜所构成的感光元件中,在与形成该支撑膜的所述感光性树脂组合物层的面的对面上具有含微粒子的树脂层,所述感光性树脂组合物为(A)含羧基的粘合剂聚合物、(B)分子内有至少一种可聚合的烯类不饱基团的光聚合性化合物,以及(C)光聚合引发剂所构成。 | ||
申请公布号 | CN1358281A | 申请公布日期 | 2002.07.10 |
申请号 | CN00809410.1 | 申请日期 | 2000.06.21 |
申请人 | 日立化成工业株式会社 | 发明人 | 千叶达男;市川立也 |
分类号 | G03F7/004;G03F7/033;H05K3/00 | 主分类号 | G03F7/004 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 黄永奎 |
主权项 | 1.一种感光元件,由在双轴取向聚酯膜及其一面上具有感光性树脂组合物层的支撑膜构成,其特征是,在与形成该支撑膜的所述感光性树脂组合物层的面的对面上具有含微粒子的树脂层,所述感光性树脂组合物含有:(A)含羧基的粘合剂聚合物;(B)分子内有至少一种可聚合的烯类不饱基团的光聚合性化合物,以及(C)光聚合引发剂。 | ||
地址 | 日本东京都 |