发明名称 扫描曝光方法及扫描型曝光装置
摘要 本发明,系当使光罩与基板同步移动,在基板上进行接合分割图案并进行画面合成时,把沿同步移动方向相邻之分割图案彼此间顺利地接合为目的。本发明,相对于曝光用光之照射而使光罩与基板同步移动,把光罩之分割图案投影于基板上,在基板上接合相邻之复数个分割图案并将其曝光时,把同步移动方向相邻之分割图案彼此间的一部份相互重叠。
申请公布号 TW495836 申请公布日期 2002.07.21
申请号 TW090101881 申请日期 2001.01.31
申请人 尼康股份有限公司 发明人 藤塚 清治;村上 雅一;加藤 正纪;町野 胜弥;户口 学
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种扫描曝光方法,其系相对于曝光用光之照射而同步移动光罩及基板,将前述光罩的分割图案投影于前述基板,将前述基板上相邻之复数个分割图案予以接合并曝光的扫描曝光方法;使沿前述同步移动方向相邻之前述分割图案彼此间一部份相互重叠。2.如申请专利范围第1项之扫描曝光方法,其中,当前述曝光用光照射时,于沿前述同步移动方向相邻之前述分割图案彼此间的重叠部,切换实施将前述光罩之分割图案曝光在基板上之照射与不曝光之遮光。3.如申请专利范围第2项之扫描曝光方法,其中,当前述重叠部配置于前述分割图案之前述同步移动方向前方侧时,对于前述分割图案之前述同步移动中,在前述重叠部位于前述照射领域后释放前述曝光用光;当前述重叠部配置于前述分割图案之前述同步移动方向后方侧时,对于前述分割图案之前述同步移动中,在前述重叠部位于前述照射领域后遮光前述曝光用光。4.如申请专利范围第1项之扫描曝光方法,其中,在前述照射领域中,系将复数个相邻之照射领域并排成沿着与前述同步移动方向正交之方向彼此间一部份相互重叠。5.如申请专利范围第1项之扫描曝光方法,其中,沿前述同步移动方向相邻之前述分割图案彼此间,系使沿前述同步移动方向互为同方向。6.如申请专利范围第1项之扫描曝光方法,其中,沿前述同步移动方向相邻之前述分割图案彼此曝光后,系使前述光罩及前述基板沿着与前述同步方向正交之方向移动;使沿该正交方向相邻之前述分割图案彼此间一部份相互重叠。7.如申请专利范围第1项之扫描曝光方法,其中,前述光罩,系于前述相邻之分割图案的附近具有接合标记,使用该接合标记来接合前后之分割图案。8.如申请专利范围第1项之扫描曝光方法,其中,前述复数个分割图案的曝光顺序,系根据先前之分割图案的曝光结束位置到之后的分割图案的曝光开始位置为止的前述光罩之移动距离而决定。9.一种扫描型曝光装置,其系相对于曝光用光之照射领域而同步移动保持光罩之光罩台及保持基板之基板台,以将前述基板上相邻之复数个分割图案予以接合并曝光之扫描型曝光装置,具有:遮光装置,用以遮光释放前述曝光用光;及控制装置,控制前述光罩台、基板台及遮光装置,俾在前述同步移动中变更前述照射领域之遮光状态,使沿前述同步移动方向相邻之前述分割图案彼此间一部份相互重叠。10.如申请专利范围第9项之扫描型曝光装置,其中,前述照射领域中,系将复数个相邻之照射领域并排成沿着与前述同步方向正交之方向彼此间一部份相互重叠;前述遮光装置,系配设于各个前述复数个照射领域。11.如申请专利范围第9项之扫描型曝光装置,其中,前述相邻之分割图案彼此间在前述同步移动方向一部份相互重叠之重叠范围,系与前述照射领域之前述同步移动方向的范围大致一致。12.一种扫描曝光方法,其系把具有第1图案及第2图案之光罩与基板同步移动,并把前述第1图案及前述第2图案曝光于前述基板上之扫描曝光方法;当沿着前述基板之前述同步移动方向曝光前述第1图案及前述第2图案时,把前述第1图案之一部份及前述第2图案之一部份重叠并曝光;使前述重叠曝光时之前述光罩与前述基板的同步移动速度,和不进行前述重叠曝光时之前述光罩与前述基板的同步移动速度为不同。13.如申请专利范围第12项之扫描曝光方法,其中,具有复数个单位图案,其系沿着相异于前述第1图案、及第3图案(在前述基板上沿前述同步移动方向之正交方向邻接)之既定方向而配列;当曝光前述第1图案及前述第3图案时,使其沿着相异于前述单位图案之配列方向的方向重叠。14.一种扫描曝光方法,其系使具有图案之光罩与基板相对于曝光用光之照射领域同步移动,而把前述图案曝光于前述基板上之扫描曝光方法;在前述同步移动中,变更相异于前述同步移动方向之方向的前述照射领域的大小。15.如申请专利范围第14项之扫描曝光方法,其中,于前述同步移动中,把前述照射领域之大小作复数次之变更。16.一种扫描型曝光装置,其系使具有图案之光罩与基板同步移动,把前述图案曝光于前述基板上之扫描型曝光装置,具有:照射领域设定装置,用以设定前述光罩之照射领域;及变更装置,在前述同步移动中,变更相异于前述同步移动方向之方向的前述照射领域的大小。图式简单说明:第1图为表示本发明之实施例之扫描型曝光装置之概略的外观立体图。第2图为于第一图表示之扫描型曝光装置的概略构成图。第3图为表示构成本发明之扫描型曝光装置的投影系统模组之概略构成图。第4图为表示本发明之实施例之于投影系统模组所设定之投影领域的俯视图。第5图为表示本发明之实施例之玻璃基板与投影领域之关系的俯视图。第6图(a)-(d)为玻璃基板上画面合成之各分割图案的概略侧视图。第7图为本发明之第1实施例的扫描曝光所使用之光罩的俯视图。第8图(a)为说明扫描曝光分割图案之顺序的俯视图,表示分割图案于扫描曝光开始位置。第8图(b)为说明扫描曝光分割图案之顺序的俯视图,表示对定位于投影领域的重叠部之曝光用光的照射状况。第8图(c)为说明扫描曝光分割图案之顺序的俯视图,表示对定位于投影领域的重叠部之曝光用光的照射状况。第8图(d)为说明扫描曝光分割图案之顺序的俯视图,表示分割图案曝光中的状况。第8图(e)为说明扫描曝光分割图案之顺序的俯视图,为,表示扫描曝光之结束。第9图(a)为说明扫描曝光分割图案之顺序的俯视图,表示扫描曝光中之状况。第9图(b)为说明扫描曝光分割图案之顺序的俯视图,表示重叠部定位于投影领域时之曝光用光的遮光。第9图(c)为说明扫描曝光分割图案之顺序的俯视图,表示扫描曝光中之状况。第9图(d)为说明扫描曝光分割图案之顺序的俯视图,表示显示重叠部定位于投影领域时之曝光用光的遮光。第9图(e)为说明扫描曝光分割图案之顺序的俯视图,表示扫描曝光之结束。第10图(a)为表示重叠部之曝光量分布图。第10图(b)为表示重叠部之曝光量分布图。第10图(c)为表示重叠部之曝光量分布图。第10图(d)为表示重叠部之曝光量分布图。第11图为表示投影领域与分割图案的重叠部之位置关系之俯视图。第12图(a)为表示透过投影领域端部之重叠部的曝光量分布图。第12图(b)为表示透过投影领域端部之重叠部的曝光量分布图。第12图(c)为表示透过投影领域端部之重叠部的曝光量分布图。第12图(d)为表示透过投影领域端部之重叠部的曝光量分布图。第13图(a)为表示透过2个投影领域端部所曝光之重叠部的曝光量分布图。第13图(b)为表示透过2个投影领域端部所曝光之重叠部的曝光量分布图。第14图(a)为表示重叠部之曝光量分布图。第14图(b)为表示重叠部之曝光量分布图。第14图(c)为表示重叠部之曝光量分布图。第14图(d)为表示重叠部之曝光量分布图。第15图(a)为表示透过投影领域端部之重叠部的曝光量分布图。第15图(b)为表示透过投影领域端部之重叠部的曝光量分布图。第15图(c)为表示透过投影领域瑞部之重叠部的曝光量分布图。第15图(d)为表示透过投影领域端部之重叠部的曝光量分布图。第16图为本发明之第2实施例之扫描曝光所使用之光罩的俯视图。第17图(a)为表示扫描曝光之顺序的俯视图。第17图(b)为表示扫描曝光之顺序的俯视图。第17图(c)为表示扫描曝光之顺序的俯视图。第17图(d)为表示扫描曝光之顺序的俯视图。第17图(e)为表示扫描曝光之顺序的俯视图。第17图(f)为表示扫描曝光之顺序的俯视图。第17图(g)为表示扫描曝光之顺序的俯视图。第18图为表示本发明之第3实施例图,表示单一之投影领域与玻璃基板之位置关系之俯视图。第19图为表示变更投影领域大小之方法的俯视图。第20图为表示本发明之第4实施例图,表示扫描型曝光装置之光学系统的概略。第21图为表示构成第20图之扫描型曝光装置的标线片遮帘之外观之立体图。第22图为构成标线片遮帘之遮帘板的俯视图。第23图为藉由本发明之扫描曝光方法所画面合成之LCD图案的俯视图。第24图为表示于玻璃基板上构成的TFT/LCD之显示像素的概略构成图。第25图为用于LCD图案的画面合成之标线片的俯视图。第26图为表示玻璃基板上之位置与能量之关系图。第27图为于分割图案P2之扫描曝光开始位置设定有曝光点之标线片的俯视图。第28图为表示玻璃基板上之位置与能量之关系图。第29图为说明重叠部JX1.JY1之交叉部的曝光量分布图。第30图为说明重叠部JX1.JY1之交叉部的曝光量分布图。第31图为表示本发明之第5实施例,将标线片上之曝光点沿着与同步移动方向正交之方向移动时的俯视图。第32图为使用表示于第31图之标线片所画面合成之LCD图案的俯视图。第33图为表示本发明之第6实施例,将标线片上之曝光点沿着与同步移动方向正交之方向复数次移动时的俯视图。第34图为使用表示于第33图之标线片所画面合成之LCD图案的俯视图。第35图为表示液晶显示元件之制程之一例之流程图。
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