| 主权项 |
1.一种处理矽酮水凝胶隐形眼镜表面之方法,其系经由包括以下步骤之控制制造法进行:(a)于100至1000瓦与0.1至1.0托压力下,以含氧气氛等离子处理该眼镜每侧超过4分钟,以产生含矽酸盐涂层,(b)将该眼镜浸渍在水溶液中以使该眼镜产生水合作用,其中由该眼镜吸收之水量占该眼镜材料重量之至少5%,(c)使该已水合眼镜进行杀菌作用,其中该经热杀菌眼镜之含矽酸盐涂层之特征为当观察50x50平方微米AFM影像时,可发现经由退缩裂缝包围之突出片状物之马赛克图案,其中该裂缝深度平均为100与500埃之间,且该片状物涵盖范围平均为40至99%。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(a)中之该等离子体处理为300至500瓦,费时每侧6至60分钟。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(a)中之该等离子体处理为每侧8至30分钟。4.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(b)使该眼镜膨胀5至25%。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中该压热处理为100℃至200℃,费时10至120分钟。6.根据申请专利范围第1项之方法,其中该裂缝深度平均为150与200埃之间。7.根据申请专利范围第1项之方法,其中该片状物涵盖范围平均为60至80%之间。8.根据申请专利范围第1项之方法,其中以商业方法制成之成品中至少80%该眼镜在该裂缝深度及片状物涵盖范围内。9.根据申请专利范围第8项之方法,其中至少90%该眼镜在该范围内。10.根据申请专利范围第1项之方法,其中该矽酮水凝胶之本体配方含有5至50重量%一或多种矽酮巨单体,5至75重量%一或多种聚矽氧烷基烷基(甲基)丙烯酸单体,及10至50重量%亲水单体。11.根据申请专利范围第10项之方法,其中该矽烷巨单体为经一个不饱和基团于2或多个末端处封端之聚(有机矽氧烷)。12.根据申请专利范围第10项之方法,其中该矽烷巨单体为含矽之碳酸乙烯酯或胺基甲酸乙烯酯,或具有一或多个硬-软-硬嵌段并经一个亲水单体封端之聚胺基甲酸乙酯-聚矽氧烷。13.根据申请专利范围第1项之方法,其中该聚矽氧烷基烷基(甲基)丙烯酸单体为甲基丙烯氧基丙基三(二甲基-甲矽烷氧基)矽烷。14.根据申请专利范围第1项之方法,其中该亲水单体系为选自不饱和羧酸,经丙烯酸取代之醇,乙烯基内醯胺,丙烯醯胺,碳酸乙烯酯或胺基甲酸乙烯酯,唑酮单体,及其混合物。15.根据申请专利范围第14项之方法,其中该亲水单体系为选自甲基丙烯酸与丙烯酸,2-羟乙基甲基丙烯酸酯与2-羟乙基乙烯酸酯,N-乙烯基咯酮,甲基丙烯醯胺,N,N-二甲基丙烯醯胺,及其混合物。16.一种包含具有含矽酸盐表面涂层之亲水性表面之矽酮水凝胶隐形眼镜,其中该矽酸盐表面涂层之特征为当观察50x50微米平方AFM影像时,可发现经由退缩裂缝包围之突出片状物之马赛克图案,其中,由于控制制造法之结果,该裂缝深度平均为100与500埃之间,且该片状物涵盖范围平均为40与99%之间。17.根据申请专利范围第16项之隐形眼镜,其中该裂缝深度平均为150与200埃之间。18.根据申请专利范围第16项之隐形眼镜,其中该片状物涵盖范围平均为60与99%之间。19.根据申请专利范围第16项之隐形眼镜,其中该矽酮水凝胶含有30至60重量%一或多种矽铜巨单体,1至35重量%一或多种聚矽氧烷基烷基(甲基)丙烯酸单体,及20至40重量%亲水单体。20.根据申请专利范围第16项之隐形眼镜,其中该矽烷巨单体为经一个不饱和基团于2或多个末端处封端之聚(有机矽氧烷)。21.根据申请专利范围第16项之隐形眼镜,其中该矽烷巨单体为含矽之碳酸乙烯酯或胺基甲酸乙烯酯,或具有一或多个硬-软-硬嵌段,且经一个亲水单体封端之聚胺基甲酸乙酯-聚矽氧烷。22.根据申请专利范围第16项之隐形眼镜,其中该聚矽氧烷基烷基(甲基)丙烯酸单体为甲基丙烯氧基丙基三(三甲基-甲矽烷氧基)矽烷。23.根据申请专利范围第16项之隐形眼镜,其中该亲水单体系为选自不饱和羧酸,经丙烯酸取代之醇,乙烯基内醯胺,丙烯醯胺,碳酸乙烯酯或胺基甲酸乙烯酯,唑酮单体,及其混合物。24.根据申请专利范围第16项之隐形眼镜,其中该亲水单体系为选自甲基丙烯酸与丙烯酸,2-羟乙基甲基丙烯酸酯与2-羟乙基丙烯酸酯,N-乙烯基咯酮,甲基丙烯醯胺,N,N-二甲基丙烯醯胺,及其混合物。图式简单说明:图1为制造根据本发明之具有镜片涂层之隐形眼镜之制法流程图。图2系为显示进一步经根据本发明之萃取,水合作用及杀菌作用加工前之经等离子体处理镜片之原子力显微术(AFM)拓朴影像(50x50微米)。图3系作为比较用,其显示只经等离子体处理4分钟(或与图3之镜片加工类似的方法)后,一种经水合及压热等离子体处理之镜片(经完全加工)之原子力显微术(AFM)拓朴影像(50x50平方微米),其显示具有勉强可见之片状物,及约20%表面涵盖范围之相当平滑表面。图4系为显示经压热处理前,已经过异丙醇萃取之根据本发明之经等离子体处理镜片之原子力显微术(AFM)拓朴影像(50x50微米),其并显示约50%表面涵盖范围。图5系为显示根据实例1之条件,每侧经等离子体处理8分钟后,根据本发明之经水合及压热等离子体处理镜片(经完全加工)之原子力显微术(AFM)拓朴影像(50x50微米),其并显示约95%表面涵盖范围。全部AFM影像系以乾试样为基准。 |
