| 发明名称 |
Photoresist composition |
| 摘要 |
The present invention relates to a photosensitive composition useful at wavelengths between 300 nm and 10 nm which comprises a polymer containing a substituted or unsubstituted higher adamantane.
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| 申请公布号 |
US7033728(B2) |
申请公布日期 |
2006.04.25 |
| 申请号 |
US20030748778 |
申请日期 |
2003.12.29 |
| 申请人 |
AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP. |
发明人 |
DAMMEL RALPH R. |
| 分类号 |
G03C1/73;G03F7/039;G03F7/20;G03F7/30 |
主分类号 |
G03C1/73 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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