发明名称 雷射切割用保护膜剂及使用此保护膜剂之晶圆加工方法
摘要 依据本发明之雷射切割用保护膜剂包含一种溶液,其有水溶性树脂及至少一种选自水溶性染料、水溶性着色剂及水溶性紫外线吸收剂之雷射光吸收剂溶解于其中。将保护膜剂涂覆至欲加工的晶圆表面上,继而乾燥以形成保护膜。透过保护膜进行雷射切割,而自晶圆制得晶片。因此,得以有效地防止碎屑淀积于晶片整个表面(包括其周围边缘部分)上。
申请公布号 TW200631086 申请公布日期 2006.09.01
申请号 TW094136718 申请日期 2005.10.20
申请人 东京应化工业股份有限公司;迪思科股份有限公司 发明人 高梨博;川上敦史;吉川敏行;北原信康
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本