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发明名称
雷射切割用保护膜剂及使用此保护膜剂之晶圆加工方法
摘要
依据本发明之雷射切割用保护膜剂包含一种溶液,其有水溶性树脂及至少一种选自水溶性染料、水溶性着色剂及水溶性紫外线吸收剂之雷射光吸收剂溶解于其中。将保护膜剂涂覆至欲加工的晶圆表面上,继而乾燥以形成保护膜。透过保护膜进行雷射切割,而自晶圆制得晶片。因此,得以有效地防止碎屑淀积于晶片整个表面(包括其周围边缘部分)上。
申请公布号
TW200631086
申请公布日期
2006.09.01
申请号
TW094136718
申请日期
2005.10.20
申请人
东京应化工业股份有限公司;迪思科股份有限公司
发明人
高梨博;川上敦史;吉川敏行;北原信康
分类号
H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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