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Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Abscheiden von von insbesondere kristallinen Schichten auf insbesondere kristallinien Stubstraten in einer Prozesskammer (1) eines Reaktorgehäuses mit wassergekühlter Wand (2) wobei der Boden (3) der Prozesskammer (1) beheizt wird, und wobei als Prozessgas ein oder mehrere Reaktionsgase zusammen mit Wasserstoff als Trägergas zentral in die Prozesskammer (1) eingeleitet und durch einen der Prozesskammer (1) umgebenden Gasauslassring (5) abgeführt werden, wobei zwischen Reaktordeckel (6) und Prozesskammerdecke (4) ein Spülgas (7) fliesst, welches zusammen mit einem den Raum (12) zwischen Reaktorwand (2) und Gasauslassring (5) spulenden Spülgas (8) durch einen Spalt (9) zwischen Reaktordecke (4) und des zum Beladen der Prozesskammer (1) absenkbaren Gasauslassringes (5) in den äusseren Bereich (1') der Prozesskammer (1) geleitet werden, um zusammen mit dem Prozessgas (10) durch Öffnungen (11) in den Gasauslassring (54) gesaugt zu werden, wobei das den Raum (12) zwischen Reaktorwand (2) und Gasauslassring (5) spülende Gas Stickstoff oder eine Mischung aus Wasserstoff und Stickstoff ist.
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