| 摘要 |
<p>L'invention concerne un contrôleur de débit massique à mécanisme de pression (10), susceptible d'être utilisé, par exemple, dans la fabrication des semiconducteurs, pour l'acheminement précis d'un gaz de procédé dans une chambre de traitement. Le contrôleur peut fonctionner avec une source de pression peu élevée. Sa conception simplifiée permet une incorporation aisée et peu onéreuse dans un système qui comprend une pluralité de sources de gaz. Le contrôleur comporte un trajet d'écoulement (12) destiné à être relié à une source de fluide, un limiteur de flux (14) divisant le trajet d'écoulement en un réservoir amont (16) et un réservoir aval (18), un dispositif de mesure de pression amont (20) relié au réservoir amont, et une vanne de réglage de l'écoulement (2) reliée au trajet d'écoulement. En outre, le contrôleur comporte un dispositif de contrôle (24) programmé pour recevoir un débit déterminé, une indication de pression amont pour le dispositif de mesure de pression amont, une indication de pression aval depuis un dispositif de mesure de pression aval distant relié au réservoir aval (18). Le dispositif de contrôle (24) détermine ensuite un débit massique effectif pour un état d'écoulement réduit correspondant à une fonction linéaire de la pression amont, et pour un état d'écoulement non réduit correspondant à une fonction non linéaire de la pression amont et de la pression aval. Enfin, le dispositif de contrôle (24) est programmé pour transmettre à la vanne de réglage de l'écoulement une instruction visant à augmenter l'écoulement si le débit effectif est inférieur à un seuil déterminé, et à diminuer l'écoulement si le débit effectif est supérieur à un seuil déterminé.</p> |
