| 摘要 |
<p>Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements (330; 400; 500; 600; 700; 800; 900; 1000; 1100), wie insbesondere ein mehrschichtiges Halbleiterbauelement, und von einem verfahrensgemäß hergestellten Halbeiterbauelement, wobei das Halbleiterbauelement insbesondere eine bewegliche Masse bzw. eine Schwingerstruktur (501, 502; 701, 702) aufweist, nach der Gattung des betreffenden unabhängigen Patentanspruchs. Um ein mikromechanisches Bauelement mit einkristallinen Schwingerstrukturen (501, 502; 601, 702), wie insbesondere ein Beschleunigungssensor oder ein Drehratensensor, einfach und kostengünstig in Oberflächenmikromechanik herstellen zu können, ist bei erfindungsgemäßen Verfahren vorgesehen, daß in einem ersten Schritt eine erste poröse Schicht (301; 901) in dem Halbleiterbauelement gebildet wird und in einem zweiten Schritt ein Hohlraum bzw. eine Kaverne (302; 1101) unter oder aus der ersten porösen Schied (301) in dem Halbleiterbauelement gebildet wird.</p> |
