| 主权项 |
1.一种深开挖雷射监测方法,适用于深开挖工程中 监测一土墙的水平变位,其步骤系包括: a1.架设一雷射测距仪于一定点,调校水平后并以对 准该土墙之连续支撑壁的法线方向设为其原点方 向; b1.设定复数个测距点于该连续支撑壁上; c1.驱动该雷射测距仪,使其雷射光束发射角度自该 原点方向水平移动角度,垂直移动角度,以对 准该复数个测距点其中之一测距点,并测出该测距 点的直线距离値(L); d1.转换该直线距离値为该原点方向的水平距离値( X),执行一换算式为X=[L.COS().COS()]; e1.重覆执行该c1步骤至该d1步骤,记录对各该测距 点每一次所得的直线距离値(L)及水平距离値(X);及 f1.计算各该测距点每一次与前一次所得之水平距 离値(X)的差値为其水平变位量。 2.如申请专利范围第1项所述的深开挖雷射监测方 法,其中该b1步骤系包括在该土墙上固定一反光物 体,藉以反射该雷射光束返回该雷射测距仪的步骤 。 3.如申请专利范围第1项所述的深开挖雷射监测方 法,其中该土墙表面系有一连续壁,且该b1步骤系在 该连续壁上固定一反光物体的步骤,藉以反射该雷 射光束返回该雷射测距仪的步骤。 4.如申请专利范围第1项所述的深开挖雷射监测方 法,其中该d1步骤系将该直线距离値(L)输入一电子 试算表的栏位,执行该换算式者。 5.如申请专利范围第4项所述的深开挖雷射监测方 法,其中该电子试算表系在一电脑中所执行之EXCEL 软体。 6.如申请专利范围第5项所述的深开挖雷射监测方 法,其中该电子试算表尚系包括一栏位供输入一数 値,且当该水平变位量超过该数値时,即令该电脑 发出一警告信号。 7.一种深开挖雷射监测方法,适用于深开挖工程现 场监测一土墙的水平变位,其步骤系包括: a2.架设复数个雷射测距仪于该工程现场之不同深 度的定点上,分别调校水平后并各别以对准该工程 现场中之土墙上所设之连续支撑壁的法线方向设 为其原点方向; b2.设定复数个测距点于该连续支撑壁上; c2.驱动各该雷射测距仪,使其雷射光束发射角度自 该原点方向水平移动角度,垂直移动角度,以 对准该复数个测距点其中之一测距点,并测出该测 距点的直线距离値(L); d2.传输各该雷射测距仪之水平移动角度及垂直 移动角度,及所测得之直线距离値(L)至一资料处 理器; e2.利用该资料处理器分别转换来自各该雷射测距 仪的直线距离値为一水平距离値(X),执行一换算式 为X=[L.COS().COS()]; f2.重覆执行该c2步骤至该e2步骤,并记录各该雷射 测距仪对各该测距点每一次所得的直线距离値(L) 及水平距离値(X);及 g2.计算各该雷射测距仪对各该测距点每一次与前 一次所得之水平距离値(X)的差値为其水平变位量 。 8.如申请专利范围第7项所述的深开挖雷射监测方 法,其中该b2步骤系包括在该土墙上固定一反光物 体,藉以反射该雷射光束返回该雷射测距仪的步骤 。 9.如申请专利范围第7项所述的深开挖雷射监测方 法,其中该土墙表面系有一连续壁,且该b2步骤系在 该连续壁上固定一反光物体的步骤,藉以反射该雷 射光束返回该雷射测距仪的步骤。 10.如申请专利范围第7项所述的深开挖雷射监测方 法,其中该e2步骤系将来自各该雷射测距仪的平移 动角度、垂直移动角度及直线距离値(L)输入 一电子试算表的栏位,执行该换算式者。 11.如申请专利范围第10项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该电子试算表系在一电脑中所执行之 EXCEL软体。 12.如申请专利范围第11项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该电子试算表尚系包括一栏位供输入一 数値,且当该水平变位量超过该数値时,即令该电 脑发出一警告信号。 13.如申请专利范围第12项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该电脑尚含有网际网路及电子邮件软体 ,且系利用该电子邮件软体将该警告信号传至其它 电脑或一手机者。 14.一种深开挖雷射监测方法,适用于深开挖工程监 测一土墙的水平变位,其步骤系包括: a3.架设一雷射测距仪于一定点,调校水平后并以对 准该土墙之连续支撑壁的法线方向设为其原点方 向; b3.设定复数个测距点于该连续支撑壁上; c3.驱动该雷射测距仪,使录雷射光束逐一对准该复 数个测距点,并逐一记录该雷射光束与该原点方向 的夹角(),并逐一测出该测距点的直线距离値(L); d3.转换该直线距离値为该原点方向的水平距离値( X),执行一换算式为X=L.COS(); e3.重覆执行该c3步骤至该d3步骤,记录对各该测距 点每一次所得的直线距离値(L)及水平距离値(X);及 f3.计算各该测距点每一次与前一次所得之水平距 离値(X)的差値为其水平变位量。 15.如申请专利范围第14项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该b3步骤系包括在该土墙上固定一反光 物体,藉以反射该雷射光束返回该雷射测距仪的步 骤。 16.如申请专利范围第14项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该土墙表面系有一连续壁,且该b3步骤系 在该连续壁上固定一反光物体的步骤,藉以反射该 雷射光束返回该雷射测距仪的步骤。 17.如申请专利范围第14项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该d3步骤系将该直线距离値(L)输入一电 子试算表的栏位,执行该换算式者。 18.如申请专利范围第17项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该电子试算表系在一电脑中所执行之 EXCEL软体。 19.如申请专利范围第18项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该电子试算表尚系包括一栏位供输入一 数値,且当该水平变位量超过该数値时,即令该电 脑发出一警告信号。 20.一种深开挖雷射监测方法,适用于深开挖工程现 场监测一土墙的水平变位,其步骤系包括: a4.架设复数个雷射测距仪于该工程现场之不同深 度的定点上,分别调校水平后并各别以对准该工程 现场中之土墙上所设之连续支撑壁的法线方向设 为其原点方向; b4.设定复数个测距点于该连续支撑壁上; c4.驱动各该雷射测距仪,使录雷射光束逐一对准各 该复数个测距点,并逐一记录各该雷射测距仪所发 出之雷射光束与该原点方向的夹角(),并逐一测 出各该测距点的直线距离値(L); d4.传输各该雷射测距仪之夹角()及所测得之直 线距离値(L)至一资料处理器; e4.利用该资料处理器分别转换来自各该雷射测距 仪的直线距离値为一水平距离値(X),执行一换算式 为X=L.COS(); f4.重覆执行该c4步骤至该e4步骤,并记录各该雷射 测距仪对各该测距点每一次所得的直线距离値(L) 及水平距离値(X);及 g4.计算各该雷射测距仪对各该测距点每一次与前 一次所得之水平距离値(X)的差値为其水平变位量 。 21.如申请专利范围第20项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该b4步骤系包括在该土墙上固定一反光 物体,藉以反射该雷射光束返回该雷射测距仪的步 骤。 22.如申请专利范围第20项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该土墙表面系有一连续壁,且该b4步骤系 在该连续壁上固定一反光物体的步骤,藉以反射该 雷射光束返回该雷射测距仪的步骤。 23.如申请专利范围第20项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该e4步骤系将来自各该雷射测距仪的平 移动角度、垂直移动角度及直线距离値(L)输 入一电子试算表的栏位,执行该换算式者。 24.如申请专利范围第23项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该电子试算表系在一电脑中所执行之 EXCEL软体。 25.如申请专利范围第24项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该电子试算表尚系包括一栏位供输入一 数値,且当该水平变位量超过该数値时,即令该电 脑发出一警告信号。 26.如申请专利范围第25项所述的深开挖雷射监测 方法,其中该电脑尚含有网际网路及电子邮件软体 ,且系利用该电子邮件软体将该警告信号传至其它 电脑或一手机者。 图式简单说明: 第1图、系本发明之应用例。 第2图、系本发明之应用例的方块图。 第3图、系本发明之另一应用例的方块图。 第4图、系本发明应用例关于之雷射测距仪的雷射 光束与原点方向相对关系示意图。 第5图、系本发明之实施例的方块图。 第6图、系本发明之变化实施例的方块图。 第7图、系本发明另一变化实施例的方块图。 第8图、系本发明又一变化实施例的方块图。 |
