用于光刻工艺的模拟方法

摘要

揭示一种用于模拟光刻工艺的模拟方法，并且该方法能预估抗蚀剂图形的大小，是借助于决定投射影像中的简化模型来代表抗蚀工艺，而不模拟包括抗蚀工艺的完整工艺过程，来获得扩散投射影像模型(DAIM)，然后再把DAIM应用到临界模型。#!

主权项

1.一种用于光刻工艺的模拟方法，包括的步骤有：通过输入在I-线抗蚀工艺中的曝光装置条件与掩模布局，获得一投射影像；将所述投影图像当作在曝光程序中抗蚀层所产生的酸分布，并且考虑在后烘烤程序中所述酸的扩散，获得一扩散投射影像；将所述扩散投射影像应用到一临界模型，从而预测抗蚀层图形的大小。