| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR IN-SITU MONITORING OF PLASMA ETCH AND DEPOSITION PROCESSES USING A PULSED BROADBAND LIGHT SOURCE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1218689(A1) |
申请公布日期 |
2002.07.03 |
| 申请号 |
EP20000965488 |
申请日期 |
2000.09.27 |
| 申请人 |
LAM RESEARCH CORPORATION |
发明人 |
PERRY, ANDREW;MUNDT, RANDALL, S. |
| 分类号 |
C23C14/54;C23C16/52;G01B11/06;H01L21/205;H01L21/3065;(IPC1-7):G01B11/06;H01L21/66 |
主分类号 |
C23C14/54 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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