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发明名称
平坦化膜形成用组成物
摘要
本发明系提供一种平坦化膜形成用组成物,其不使用界面活性剂,在以旋转涂布法进行涂布时,能抑制膜表面产生条痕,且形成平坦性优良的平坦化膜。本发明的平坦化膜形成用组成物,系含有树脂成分与溶剂之平坦化膜形成用组成物,该溶济包含自3-甲氧基乙酸丁酯及3-甲氧基-1-丁醇中选择至少一种之溶剂。更且,树脂成分以丙烯酸系树脂为佳。
申请公布号
TW200813150
申请公布日期
2008.03.16
申请号
TW096127839
申请日期
2007.07.30
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
杉本安章;雨宫大介
分类号
C08L33/14(2006.01);C08L25/08(2006.01);H01L21/304(2006.01)
主分类号
C08L33/14(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
日本
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