发明名称 光记录媒体及其制法
摘要 本发明系提供一种使用与金反射膜相比具有低成本效果与高反射特性之银反射膜、且具有优异耐高温高湿特性之光记录媒体及其制法。本发明之光记录媒体系为在光透明性基材上至少顺序积层有含有机色素之记录层、由金属所成的光反射层及保护层而形成的光记录媒体,其特征在于光反射层为以银为主成分的薄膜,其以对光透明性基板面而言入射角为θ、以θ-2θ法测定时的X线绕射强度系I(200)/I(111)>0.40,其中I(111)为(111)面之X线绕射强度,而I(200)为(200)面之X线绕射强度。于光反射层之形成中,藉由控制溅射室内之溅射气体压力(例如0.23~1.00Pa),可得以上述银为主成分之薄膜。
申请公布号 TW493171 申请公布日期 2002.07.01
申请号 TW090107185 申请日期 2001.03.27
申请人 TDK股份有限公司 发明人 福泽成敏
分类号 G11B7/24 主分类号 G11B7/24
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼;何秋远 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种光记录媒体,其系为在光透明性基材上至少顺序积层有含有机色素之记录层、由金属所成的光反射层及系护层而形成的光记录媒体,其特征在于光反射层为以银为主成分的薄膜,其以对光透明性基板面而言入射角为、以-2法测定时的X线绕射强度系I(200)/I(111)>0.40,其中1(111)为(111)而之X线绕射强度,而I(200)为(200)面之X线绕射强度。2.如申请专利范围第1项之光记录媒体,其中光透过性基板上所形成山峰部之深度为150-2.00nm、山峰部之宽度为0.2-0.4m。3.如申请专利范围第1项之光记录媒体,其中山峰部波峰为0.5-1.5m。4.如申请专利范围第1至3项中任一项之光记录媒体,其中记录层之有机色素为偶氮色素及/或苯胺系色素。5.一种光记录媒体之制法,其包括在光透明性基材上至少顺序积层一含有机色素之记录层、一由金属所成的光反射层及一保护层,其特征为于藉由溅射法形成光反射层,藉由控制溅射室之溅射气体压力以形成对光透明性基板面而言之入射角为、以-2法测定时的X线绕射强度系I(200)/I(111)>0.40之银为主成分的薄膜,其中I(111)为(111)面之X线绕射强度,而I(200)为(200)面之X线绕射强度。6.如申请专利范围第5项之光记录媒体,其中溅射室内之溅射气体压力为0.23-1.00Pa。图式简单说明:第1图系为说明山峰部深度(d)、山峰部宽度(w)及山峰部波峰(Gp)之各尺寸的本发明光记录媒体例之部分截面图。
地址 日本