| 主权项 |
1.一种旋转式处理装置,系包含具有用以保持被处理基板之多数保持棒并可旋转自如之转子者,其中该保持棒则系形成有于该保持棒保持该被处理基板时可供该被处理基板之周缘插入之多个定位沟,并设有可由该各定位沟排出液体之排液通道者。2.如申请专利范围第1项之旋转式处理装置,其中该排液通道系与该定位沟相连接并于该保持棒之外面上远离该转子之旋转轴线而延伸之排液沟。3.如申请专利范围第2项之旋转式处理装置,其中该保持棒具有圆形之截面形状,该排液沟及与该排液沟相连接之该定位沟则将该保持棒之周围形成环绕一周而不间断之连续沟。4.如申请专利范围第1项之旋转式处理装置,其中该转子具有一对凸缘,该等多数保持棒则包含配置于该对凸缘间而固定于该凸缘上之至少1根固定保持棒,前述固定保持棒并于其两端具有分别贯通该凸缘而分别突出于该各凸缘之外侧之螺纹部,又,该固定保持棒系藉将盖形螺帽螺着于该螺纹部而分别固定于该凸缘上者,该盖形螺帽之座面与该凸缘间并插设有密封构件。5.如申请专利范围第1项之旋转式处理装置,其中该转子具有配置该保持棒于其间之一对凸缘,该对凸缘中之一凸缘则系以螺栓固定于其外侧所配置之驱动转子用之旋转驱动轴上者,前述其中之一凸缘上并形成有用以收容该螺栓之头部之埋头孔,该埋头孔则系随其内周面对该埋头孔座面之远离而形成扩大直径之锥状者。6.如申请专利范围第5项之旋转式处理装置,其中该螺栓头部之座面与该埋头孔之座面间插设有一密封构件。7.如申请专利范围第1项之旋转式处理装置,其中该保持棒具有圆形之截面形状。8.如申请专利范围第4项之旋转式处理装置,其中该固定保持棒包含有:一心材部,系具有自该凸缘突出之该螺纹部者;及一圆筒状周材部.系形成有该定位沟并用以与该心材部嵌合者。9.如申请专利范围第1项之旋转式处理装置,其中该等多数保持棒至少包含1根可动保持棒,而可藉使该可动保持棒移动而对为前述多数保持棒所包围之空间插入该被处理基板。10.如申请专利范围第9项之旋转式处理装置,其中该可动保持棒更具有一可藉螺栓加以安装之安装构件,该可动保持棒则至少于该安装构件与该可动保持棒之接触部分设有横断该等多数排液沟而延伸以相互连通该等多数排液沟的连通沟。11.如申请专利范围第10项之旋转式处理装置,其中该安装构件设有形成有可供该螺栓螺着之阴螺纹之贯通孔。12.如申请专利范围第10项之旋转式处理装置,其中该安装构件系具有一对肋与用以连结该等肋之连接板,其截面并形成矩形括弧(])状者,而,当该可动保持棒位于可保持被处理基板之周缘之位置时,该连接板则朝与该被处理基板之周缘大致垂直之方向延伸。13.如申请专利范围第1项之旋转式处理装置,其更包含有:一第1包围元件,系用以包围该转子以形成处理室者;及一第2包围元件,系用以包围该转子与第1包围元件者。14.如申请专利范围第13项之旋转式处理装置,其中该第1包围元件与该第2包围元件系可相对移动者。15.如申请专利范围第1项之旋转式处理装置,其更具有一用以控制该转子之旋转动作之控制器,而,该控制器则可控制该转子,以使该转子之旋转速度在第1旋转速度与大于该第1旋转速度之第2旋转速度间反覆切换。图式简单说明:第1图系显示由侧方观察本发明之旋转式处理装置之实施例之部分截面图。第2图系沿第1图之Ⅱ-Ⅱ线之截面图。第2A图系沿第2图之Ⅱa-Ⅱa线之截面图。第3图系沿第1图之Ⅲ-Ⅲ线之截面图。第4图系显示第1图中所示固定保持棒之周材部之截面图。第5图系显示第1图中所示盖形螺帽之截面图。第6图系显示用以将第1图所示之凸缘固定于旋转驱动轴上之部分之构造之重要部分截面图。第7A图系显示第1图中所示可动保持棒之正面图。第7B图系第7A图中Ⅶb箭头方向之截面视图。第7C图系沿第7B图之Ⅶc-Ⅶc线之截面图。第8图系显示用以将第1图所示之可动保持棒安装于凸缘上之部分之重要部分截面图。第8A图系显示可动保持棒之停止机构构造之截面图。第8B系第8A图中所示树脂制套管之立体图。第8C系第8A图中所示不锈钢制套管之立体图。第9图系显示第1图所示之旋转式处理装置者,并为沿IX-IX线之截面图。第10图系显示旋转式处理装置之其他周材部之截面图。第11图系装设有本发明之旋转式处理装置之双室型液处理装置之概略构造图。 |
