Semiconductor device increasing contact margin and method for forming the same,申请号KR20020037193-传众专利搜索

发明名称	Semiconductor device increasing contact margin and method for forming the same
摘要
申请公布号	KR100832228(B1)	申请公布日期	2008.05.23
申请号	KR20020037193	申请日期	2002.06.29
申请人		发明人
分类号	H01L21/28	主分类号	H01L21/28
代理机构		代理人
主权项
地址