| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR WAFER PROCESSING SYSTEM WITH VERTICALLY-STACKED PROCESS CHAMBERS AND SINGLE-AXIS DUAL-WAFER TRANSFER SYSTEM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IL145678(D0) |
申请公布日期 |
2002.06.30 |
| 申请号 |
IL20000145678 |
申请日期 |
2000.04.21 |
| 申请人 |
SILICON VALLEY GROUP THERMAL SYSTEMS, LLC |
发明人 |
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| 分类号 |
G03F7/20;C23C16/54;H01L21/00;H01L21/02;H01L21/31;H01L21/677;H01L21/687;(IPC1-7):H01L |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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