| 发明名称 | 清洗装置及镀膜料片制造装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种清洗装置，其设置有清洗液容池和将清洗液供应给清洗液容池的部件。在电镀液处，使料片的导电面与阴极辊接触，并且在导电面形成镀膜。所述清洗装置布置在电镀液的下游侧。并且，所述清洗装置对将料片通过空中朝后续阶段输送的辊进行清洗。所述辊的下部浸渍在清洗液容池的清洗液中。 | ||
| 申请公布号 | CN101331248A | 申请公布日期 | 2008.12.24 |
| 申请号 | CN200780000756.4 | 申请日期 | 2007.03.20 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 斋藤浩一 |
| 分类号 | C25D7/06(2006.01);B08B3/04(2006.01) | 主分类号 | C25D7/06(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 蔡胜利 |
| 主权项 | 1、一种清洗装置，包括：清洗液容池；以及供给部件，其将清洗液供应给清洗液容池；其中，所述清洗装置相对于电镀液布置在下游侧，在所述电镀液处，料片的导电面与阴极辊接触并且在导电面形成镀膜，所述清洗装置对将料片通过空中朝后续阶段输送的辊进行清洗；并且所述辊的下部浸渍在清洗液容池的清洗液中。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||