Halteeinrichtung

摘要

Zur besonders einfachen und sicheren Handhabung von dünnen und/oder gebogenen Halbleiterwafern wird bei einer entsprechenden Halteeinrichtung (100) vorgeschlagen, dass mindestens eine erste Einrichtung (5) zum Erzeugen von einen Halbleiterwafer zur Einrichtung (100) hin ziehenden Kräften aufgrund des Bernoulliprinzips durchströmendes Gas vorgesehen ist und dass mindestens eine zweite Einrichtung (2, 3) zum Halten des Halbleiterwafers an der Einrichtung (100) aufgrund durch wenigstens ein elektromagnetisches Feld erzeugte Kräfte vorgesehen ist.