| 发明名称 |
Plasmareinigungsverfahren mit Gebrauch von einem Plasma-beständigen Deckel |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69523218(T2) |
申请公布日期 |
2002.06.27 |
| 申请号 |
DE1995623218T |
申请日期 |
1995.07.06 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
LEUNG, CISSY S.;SOMEKH, SASSON;LEI, LAWRENCE CHUNG-LAI |
| 分类号 |
C30B33/12;C23C16/44;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065;(IPC1-7):C23C16/44;C23C16/14;B08B7/00 |
主分类号 |
C30B33/12 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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