| 发明名称 |
Verfahren zum Strukturieren einer Metall- oder Metallsilizidschicht sowie ein mit diesem Verfahren hergestellter Kondensator |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE19919110(C2) |
申请公布日期 |
2002.06.27 |
| 申请号 |
DE19991019110 |
申请日期 |
1999.04.27 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
WEINRICH, VOLKER;SCHINDLER, GUENTHER;MAZURE-ESPEJO, CARLOS |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/02;H01L21/3213;H01L21/768;H01L21/822;H01L21/8246;H01L27/04;H01L27/06;H01L27/105;(IPC1-7):H01L21/321;H01L27/108 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
