发明名称 光扩散薄膜及其利用
摘要 本发明系提供一种可简单且安定之制造者,同时具有提升由光源之亮度之光扩散薄膜者,使光扩散薄膜(于透明基材2之至少一面上设置光扩散层3,该光扩散层3本质上未含光扩散性粒子,于其表面设置微细凹凸形状之电离放射线硬化型树脂所组成,其光扩散层3之表面之任取10点平均粗度Rz为1~10μ/m者,且,平均倾斜θa为5~20度所形成者为其特征者。
申请公布号 TW491949 申请公布日期 2002.06.21
申请号 TW089111175 申请日期 2000.06.08
申请人 大印刷股份有限公司 发明人 菅泰治;荒川文裕
分类号 G02B5/00 主分类号 G02B5/00
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种光扩散薄膜,其特征系于透明基材之至少一面上,层叠由电离放射线硬化型树脂所成之光扩散层所成之光扩散薄膜者,该光扩散层本质上为不含光扩散性粒子,且其表面具有微细凹凸,该光扩散层之表面住取10点平均粗细度Rz为1-10m者,且,平均倾斜a为5-20度者。2.如申请专利范围第1项之光扩散薄膜,其中该光扩散薄膜的浊度値为85-95%,且,全光线透光率为80-90%所组成者。3.如申请专利范围第1项之光扩散薄膜,其中针对该光扩散薄膜其光之入射角与法线呈60-80时,由法线之出射角之顶点为30-50所组成者。4.如申请专利范围第1项之光扩散薄膜,其中该透明基材之该光扩散层所形成面之反面上更具有消光层者。5.一种光扩散薄膜之制造方法,其特征系于透明基材之单面上具有微细凹凸,表面之任取10点的平均粗细度Rz为1-10m者,且,层叠平均倾斜a为5-20度之电离放射线硬化型树脂所成之光扩散层而成之光扩散薄膜之制造方法,于形成微细凹凸形状之滚辊版之表面上适用流动状态之电离放射线硬化型树脂,且于该滚辊版之外环卷取透明基材后,使此透明基材接触于该电离放射线硬化型树脂同时于旋转滚辊版之步骤与此滚辊版之旋转中使该电离放射线硬化型树脂密接于该透明基材后硬化之步骤与硬化之树脂同时使该透明基材由滚辊版剥离之步骤所组成者。6.如申请专利范围第5项之方法,其中该各步骤为连续性进行者。7.一种面光源,其特征系具备设置于由侧端部所入射之光,与入射面交叉之出射面所出射之导光板及导光板至少1个端部上之光源,于导光板之出射面上具备如申请专利范围第1项之光扩散薄膜所成者。8.如申请专利范围第7项之面光源,其中该面光源更于该光扩散薄膜上更具备棱镜薄片所成者。9.一种显示装置,其特征系于如申请专利范围第7项之面光源上具备显示板所成者。图式简单说明:图1系代表本发明光扩散薄膜之基本层组成之截面概略图者。图2系代表本发明光扩散薄膜之基本层组成,于图1之光扩散薄膜上附加消光层者之截面概略图者。图3系代表本发明光扩散薄膜之基本层组成之放大截面概略图者。图4系代表本发明之面光源及显示装置之基本组成之截面概略图者。图5系代表本发明光扩散层中入射光与出射光之一例之概略图者。图6系代表本发明光扩散层薄膜之制造装置之概略图者。图7系代表本发明光扩散薄膜之浊度値及全光线透光率之测定方法之概略图者。图8系代表使用本发明光扩散薄膜之面光源亮度分布之图者。图9系代表先行技术之截面概略图者。
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