基材处理方法及基材处理装置

摘要

本发明提供可以预先避免意外事件发生，以确保该装置的操作中断以及处理物质泄漏时的安全之基材处理装置与方法。在基材处理方法中，其中晶圆W是藉由将臭氧气体(5)馈送到装载于处理容器中之晶圆W，同时处理容器中的内部气体被排出通过臭氧清除器(10)来进行处理，该臭氧气体(5)在该处理容器(2)被密封，而且该臭氧处理器在正常状态的条件下被馈入。当该处理被中断时，该处理容器(2)中内部的气体被强制排出。当气体泄漏时，处理容器的内部气体与周边的气体被强制排出，同时臭氧气体(5)的馈送被暂停。该处理气体是在处理容器被密封，同时该排出的内部气体之后处理是正常进行的条件下被馈入。

主权项

1.一种基材处理方法,其中基材是藉由将处理气体馈送到装载于处理容器中的基材上,同时将在处理容器中将被进行后处理的内部气体排出来处理,该处理气体在处理容器被密封的条件下被馈入,而且该排出的内部气体的后处理可以正常的进行。2.如申请专利范围第1项的基材处理方法,其中当基材的处理被中断时,该处理容器中的内部气体被强制排出。3.如申请专利范围第1项的基材处理方法,其中当该处理气体泄漏在处理容器周边时,该处理容器中的内部气体被强制排出,同时该处理气体的馈送被暂停。4.一种基材处理方法,其中基材是藉由将处理气体馈送到装载于处理容器中的基材上,同时将在处理容器中将被进行后处理的内部气体排出来处理,当该处理气体泄漏在该处理容器周边时,该处理容器中内部的气体被强制排出,同时该处理气体的馈送被暂停。5.如申请专利范围第4项的基材处理方法,其中当该处理气体泄漏在处理容器周边时,处理容器的周边气体被排出,同时该排出的周边气体被后处理。6.如申请专利范围第3项的基材处理方法,其中该处理容器的周边气体被强制排出。7.如申请专利范围第1项的基材处理方法,其中在该处理容器中的内部气体的浓度已经被侦测,而且确定所侦测的处理气体浓度低于一预定値时之后,该处理容器的内部被打开。8.如申请专利范围第1项的基材处理方法,其中在暂停该处理气体的馈送,然后至少在一预定的时间内排出该处理容器的内部气体之后,该处理容器的内部被打开。9.如申请专利范围第1项的基材处理方法,其中当该处理气体的馈送被暂停,而且该处理容器的内部气体被排出时,在该处理容器中建立一个负气压。10.如申请专利范围第1项的基材处理方法,其中当后处理没有正常地进行时,该处理容器的内部气体被强制排出,同时该处理气体的馈送被暂停。11.一种基材处理装置,其中利用处理气体供应喷嘴,将处理气体馈送至装载于处理容器中的基材上,同时该处理容器的内部气体被排出通过内部排气管线,以利用后处理机件进行后处理,该装置包括:用以开启/闭合该处理容器之装载/卸载开孔的开启/闭合组件;和根据用于侦测该开启/闭合构件的开启/闭合之开启/闭合侦测器输出的侦测讯号,以及用于侦测后处理机件的运作状态之操作侦测器输出的侦测讯号,控制利用处理气体供给喷嘴做处理气体的馈送之控制器。12.如申请专利范围第11项的基材处理装置,其中内部气体排出管线包含用于强制排出该处理容器之内部气体的喷射器。13.如申请专利范围第12项的基材处理装置,包含用于侦测该处理容器周边气体中之处理气体浓度的周边浓度感应器;用于强制排出该处理容器的周边气体之第二喷射器;根据周边浓度感应器输出的侦测讯号,而用于控制经由用于强制排出该处理容器的内部气体的喷射器的强制排气,以及经由该处理气体供应喷嘴馈送该处理气体的控制器。14.如申请专利范围第12项的基材处理装置,包含根据周边浓度感应器输出的侦测讯号,而用于控制利用该第二喷射器强制排出该处理容器的内部气体的控制器。15.一种基材处理装置,其中利用处理气体供应喷嘴将处理气体馈送至装载于处理容器中之基材,同时该处理容器之内部气体经由内部排气管排出,以利用后处理机件进行后处理,该装置包含:用以开启/闭合该处理容器之装载/卸载开孔的开启/闭合组件;用以侦测试处理容器周边气体中之处理气体浓度的周边浓度感应器;连接至用于排放该处理容器之周边气体的外壳的周边排气管线;和根据周边浓度感应器输出的侦测讯号,控制透过该内部气体排放管线排气以及利用该处理气体供应喷嘴馈送该处理气体的控制器。16.如申请专利范围第13项的基材处理装置,其中当浓度感应器不正常时,该控制器暂停该处理气体的馈送,同时控制该喷射器运作。17.如申请专利范围第15项的基材处理装置,包含根据周边浓度感应器输出的侦测讯号,而用于控制该周边排气管线以及该外壳的排气之控制器。18.如申请专利范围第11项的基材处理装置,包含用于侦测该处理容器中之处理气体浓度的内部浓度感应器;和根据内部浓度感应器输出的侦测讯号,控制该开启/闭合组件的开启/闭合之控制器。19.如申请专利范围第11项的基材处理装置,包含用于将空气馈入处理容器之空气供应喷嘴。图式简单说明:第1图是本发明的一个实施例的清洁装置之管线图示。第2图是处理容器的放大截面图示。第3图是具有盖子被打开之处理容器的说明图示。第4图是晶圆导引器的透视图。第5图是蒸气产生构件的管线图。第6图是臭氧气体供给构件的管线图。第7图是空气供应构件的管线图。第8图是内部排气构件、周边排气构件放排放构件的管线图。第9图是第二内部排放环道的放大图示。第10图是水气捕集与第二排放环路的放大图。第11图是由第1图所示之清洁设备所形成之程序的第一步骤的说明图式。第12图是由第1图所示之清洁设备所形成之程序的第二步骤的说明图式。第13图是由第1图所示之清洁设备所形成之程序的流程图。第14图是说明在处理用之臭氧被耗尽之后在一预定的时间内排出处理容器中之内部气体的流程。