具有整流构造体之排废气处理装置

摘要

由使排废气流入的导管和配置排废气净化触媒之触媒导管在弯曲部连接而被构成，并且在触媒导管入口的断面方向有配列多数整流板之整流构造体的排废气处理装置，使前述整流构造体之排废气出口的触媒导管断面方向之排废气的流速分布将成为均匀地，使前述整流构造体的排废气入口导管侧之整流板高度，向前述弯曲部侧的端部逐渐变高为特征之整流构造体的排废气处理装置，而在设置触媒层的触媒导管之入口所设置的整流构造体，能够防止由排废气之惯力产生的流速分布之不均匀(偏流)，提高在该触媒层的排废气之处理效率，增加触媒寿命。

主权项

1.一种排废气处理装置,在由排废气流入之入口导管和配道排废气净化触媒的触媒导管在弯曲部连接而被构成,并且在触媒导管入口之断面方向配列有多数的整流板之整流构造体的排废气处理装置,其特征为,具有使前述整流构造体的排废气出口之触媒导管断面方向的排废气之流速分布将成为均匀地,使前述整流构造体的排废气入口导管侧之整流板高度,向前述弯曲部侧的端部逐渐变高之整流构造体的排废气处理装置。2.一种排废气处理装置,主要系由排废气流入之入口导管和配置排废气净化触媒的触媒导管在弯曲部连接而被构成,并且在触媒导管入口之断面方向有配列多数整流板的整流构造体之排废气处理装置,其特征为,前述整流构造体的前述入口导管侧之整流板的高度,系设从前述入口导管侧之端部至弯曲部侧的端部为止之距离为L0时,至所定的距离L1将逐渐变高,从其后之L1点至L0点,整流板的高度为一定之排废气处理装置。3.如申请专利范围第2项之排废气处理装置,其中,前述整流板的高度,在0≦L≦L1之范围,使之满足下述式(1)及式(3),在L1≦L≦L0的范围,使之满足式(2)及式(3)者,H=L/L1h1+h0(0≦L≦L1) (1)H=h1+h0(L1≦L≦L0) (2)0