发明名称 气体中不纯物之分析方法及分析装置
摘要 本发明为关于在分析含于气体中之微量之不纯物,特别是氧气或氨中之微量之气相水份或氧气中之微量之氙上合适之方法及装置。此气体中之不纯物之分析方法其特征为:使被测定气体离子化,介经将被测定气体中之主成分气体与不纯物气体形成之离子团之强度以质量分析计6量测之,进行上述被测定气体中之不纯物气体之定量。又,本发明之气体中之不纯物之分析装置,其特征为具备;具有将被导入之气体离子化之装置之质量分析计6,以即将被测定气体导入质量分析计6之分析管4,以及将被测定气体中之不纯物浓度控制后,导入质量分析计6之校正管10而形成。
申请公布号 TW491961 申请公布日期 2002.06.21
申请号 TW086112191 申请日期 1997.08.25
申请人 酸素股份有限公司 发明人 西名 明;梅原仁美;君岛 哲也
分类号 G02N27/62 主分类号 G02N27/62
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种气体中之不纯物之分析方法,其特征系将主成分气体和浓度已知之不纯物气体所成标准气体加以离子化,将主成分气体和不纯物气体所形成之离子团强度以质量分析计加以测定,得显示不纯物气体浓度和离子团强度的关系的检量线,使被测定气体离子化,将被测定气体中之主成分气体和不纯物气体所形成之离子团强度以质量分析计加以测定,使用前述检量线,进行前述被测定气体中之不纯物气体的定量,及前述离子团之相对离子强度呈最大地,加以调整离子化条件,以及前述离子化条件为标准电压条件者。2.如申请专利范围第1项记载之不纯物之分析方法,其中使用控制上述被测定气体中之不纯物浓度后之气体作为上述标准气体。3.如申请专利范围第1项记载之不纯物之分析方法,其中上述主成份为氧气,上述不纯物气体为水份,上述离子团之强度使用质量数M与电荷Z之比(M/Z)为50之离子之强度。4.如申请专利范围第1项记载之不纯物之分析方法,其中上述主成份为氨气,上述不纯物气体为水份,上述离子团之强度使用质量数M与电荷Z之比(M/Z)为35之离子以及质量数M与电荷Z之比(M/Z)为36之离子之至少一种之强度。5.如申请专利范围第1项记载之不纯物之分析方法,其中上述主成份为氧气,上述不纯物气体为氙,上述离子团之强度使用质量数M与电荷Z之比(M/Z)为161,163,164,166,以及168之离子之至少1种之强度。6.如申请专利范围第1项记载之不纯物之分析方法,其中上述之质量分析计为大气压离子化质量分析计。7.一种气体中之不纯物之分析装置,其特征系具备有离子化导入气体的手段的质量分析计,和将此测定气体导入至前述质量分析计的分析管,和控制被测定气体中之不纯物浓度后,除去被测定气体中之不纯物的手段,和于此之后添加不纯物之手段之校正管者。8.如申请专利范围第7项记载之不纯物之分析装置,其中上述之质量分析计为大气压离子化质量分析计。图式简单说明:图1为表示本发明之分析装置之实施例之概略构成图。图2表示将含气相水份之氧气离子化时之漂移电压与生成之离子团之相对离子强度之关系曲线。图3为表示含气相水份之氧气之水份浓度与离子团之相对离子强度之关系之曲线图。图4为表示含气相水份之氧气之水份浓度与离子团之相对离子强度之关系之曲线图。图5为表示进行超高纯度氧气中之水份之分析之际获得之质谱之例之曲线图。图6为表示进行超高纯度氙气中之水份之分析之际获得之质谱之例之曲线图。图7为表示含气相水份之氨之水份浓度与离子团之相对离子强度之关系之曲线图。图8表示含氙气之氧气之氙气浓度与离子团之相对离子强度之关系之曲线图。
地址 日本