METHOD AND APPARATUS FOR LOW VOLTAGE PLASMA DOPING USING DUAL PULSES,申请号KR1020027005410-传众专利搜索

发明名称	METHOD AND APPARATUS FOR LOW VOLTAGE PLASMA DOPING USING DUAL PULSES
摘要
申请公布号	KR20020047294(A)	申请公布日期	2002.06.21
申请号	KR1020027005410	申请日期	2002.04.26
申请人		发明人
分类号	H01J37/30	主分类号	H01J37/30
代理机构		代理人
主权项
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