发明名称 APPARATUS FOR HEAT-TREATING SUBSTRATE AND METHOD FOR SEPARATING THE SUBSTRATE FROM THE APPARATUS
摘要 <p>기판의 분리대전현상을 확실히 방지할 수 있도록 한다. 기판 G 를 탑재하는 소재 탑재 플랫폼 (1) 을, 기판의 소재 탑재면의 주요부분을 구성하는 소재 탑재 플랫폼 본체 (3) 와, 기판의 소재 탑재면의 잔여 부분을 구성하는 승강 링 플레이트 (4) 로 분할하여, 승강 링 플레이트 (4) 를 소재 탑재 플랫폼 본체 (3) 의 수용홈 (5) 에 승강가능하게 수용한다. 기판 G 를 소재 탑재 플랫폼 (1) 에서 분리시킬 때는, 우선 승강 링 플레이트 (4) 를 하강시킨 후에, 리프트핀 (8) 으로 기판 G 를 상승시키는 2 단계 분리방식을 실행하여, 이에 의해 기판과 소재 탑재 플랫폼의 접촉면을 단계적으로 분리시킨다.</p>
申请公布号 KR100341158(B1) 申请公布日期 2002.06.20
申请号 KR19990007306 申请日期 1999.03.05
申请人 null, null 发明人 사또야스유끼
分类号 H01L21/22;H01L21/205;H01L21/687 主分类号 H01L21/22
代理机构 代理人
主权项
地址