发明名称 DIFFUSED TIP EXTENSION TRANSISTOR
摘要 방법은 기판 상의 그로부터 연장된 핀의 접합 영역에 개구를 형성하는 단계; 개구 내에 도핑된 반도체 재료를 도입하는 단계; 및 도핑된 반도체 재료를 열 처리하는 단계를 포함한다. 방법은 기판으로부터 연장되는 핀 상에 게이트 전극을 형성하는 단계; 게이트 전극의 대향 측들에 인접한 핀에 개구들을 형성하는 단계; 개구들에 도핑된 반도체 재료를 도입하는 단계; 및 도핑된 반도체 재료의 도펀트의 확산을 유도하기에 충분한, 도핑된 반도체 재료의 열 처리를 행하는 단계를 포함한다. 장치는 기판으로부터 연장되는 핀을 가로지르는 게이트 전극; 및 게이트 전극의 대향 측들에 인접한 핀의 접합 영역들 내의 반도체 재료로 충전된 개구들을 포함하고, 반도체 재료는 도펀트를 포함한다.
申请公布号 KR20160102164(A) 申请公布日期 2016.08.29
申请号 KR20167013796 申请日期 2013.12.27
申请人 INTEL CORPORATION 发明人 PATEL PRATIK;LIU MARK Y.;WIEDEMER JAMI A.;PACKAN PAUL A.
分类号 H01L29/66;H01L21/324;H01L29/78 主分类号 H01L29/66
代理机构 代理人
主权项
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