| 摘要 |
본 발명은 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 공정 챔버들과 인덱스 모듈 간에 기판 반송시 기판이 임시로 머물고 기판을 냉각시키는 로드락 챔버를 포함한다. 로드락 챔버는 기판을 냉각시키는 냉각 유닛을 포함한다. 냉각 유닛은 하부 플레이트가 상하방향으로 이동함으로써 기판을 인수 또는 인계한다. 냉각 유닛은 기판을 상하부로부터 동시에 냉각시킨다. 냉각 유닛은 하부 플레이트 가장자리 영역에 얼라인 부재를 포함한다. 얼라인 부재는 하부 플레이트가 공정 위치로 상승함에 따라 기판을 정위치로 위치시킨다. 따라서, 기판을 보다 효율적으로 냉각 시킬 수 있다. |
