发明名称 A furnace for low pressure chemical vapor deposition
摘要 <p>본 발명은 웨이퍼 보트가 회전하지 않아도 적재된 웨이퍼에 균일한 두께의 증착막을 형성할 수 있으며, 구조가 간단하면서 사용수명을 극대화시킨 저압화학기상 증착용 확산로에 관한 것으로서, 이를 위해 상,하부가 개구되고, 다수개의 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 보트가 내부로 로딩 및 언로딩되는 내부 튜브와, 내부 튜브의 외측으로 소정거리 이격되게 설치되어 내부 튜브와의 사이에 공정개스 흐름통로를 형성하도록 상부가 막히고 하부가 개구된 외부 튜브와, 내부 튜브 및 외부 튜브의 개구된 하부에 설치되어 내부 튜브 및 외부 튜브를 고정시키는 플랜지와, 플랜지 측면에 설치되어 내부 튜브 내로 공정개스를 공급하고, 공정가스가 로딩된 웨이퍼 보트의 전방향을 향하게 분사되도록 하는 분사수단을 포함하여 이루어진다. 따라서, 본 발명은 웨이퍼 보트의 전방향으로 공정가스가 분사되므로 공정개스의 불균일한 분포에 따른 웨이퍼 보트 회전이 전혀 필요없어 장치 구조의 단순화를 이룰 수 있으며, 회전시 발생되는 진동에 의한 웨이퍼 손상이 방지되므로 증착공정의 생산 수율을 향상시킬 수 있게 된다.</p>
申请公布号 KR100340910(B1) 申请公布日期 2002.06.20
申请号 KR19990050089 申请日期 1999.11.12
申请人 null, null 发明人 이주형
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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