发明名称 使用双轴回射元件的成像装置和成像方法
摘要 本发明说明了使用双轴回射元件(例如90度棱镜和线性透镜元件)的成像装置和方法,其中成像可以是叠印在被成像物体上或者从成象物体偏移。如果成像是叠印在被成像物体上,这是通过回射完成的。如果成像是从被成像物体偏移,这可以通过双轴回射或者回透射完成。
申请公布号 CN1354835A 申请公布日期 2002.06.19
申请号 CN99816550.6 申请日期 1999.06.15
申请人 3M创新有限公司 发明人 J·F·德雷尔
分类号 G02B5/124 主分类号 G02B5/124
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 钱慰民
主权项 1.一种光学成像装置,其特征在于,包含:一个第一侧,包括位于第一平面的多个第一双轴回射元件,每个第一双轴回射元件通常与第一轴对齐,所述第一侧还包含多个平的透射性第一表面,所述第一表面与所述第一平面平行;和一个第二侧,包括位于第二平面的多个第二双轴回射元件且与第二轴对齐,所述第二侧还包含多个平的反射性第二表面,所述第二表面与所述第二平面平行,所述第二双轴回射元件与第一侧分开,其中第一和第二轴一般互相垂直。
地址 美国明尼苏达州