| 发明名称 | 碳膜及其形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种含有碳作为主要成分,形成在软基体材料4上的碳膜C,其特征在于碳膜C被A分裂并且分成许多区域B,被裂缝A围起来的各区域(块)的平均面积为0.15×10<SUP>－3</SUP>mm<SUP>2</SUP>～20×10<SUP>－3</SUP>mm<SUP>2</SUP>。 | ||
| 申请公布号 | CN1354276A | 申请公布日期 | 2002.06.19 |
| 申请号 | CN01135772.X | 申请日期 | 2001.10.17 |
| 申请人 | 日新电机株式会社 | 发明人 | 三宅浩二;村上泰夫;竹内上;中东孝浩;绪方洁 |
| 分类号 | C23C16/26 | 主分类号 | C23C16/26 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张元忠;谭明胜 |
| 主权项 | 1.一种在软基体材料表面上形成的碳作为主要成分的碳膜，其中该碳膜被分裂并被分成许多区域，并且被裂缝围起来的各区域的平均面积为0.15×10-3mm2～20×10-3mm2。 | ||
| 地址 | 日本京都府 | ||