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发明名称 Multikolonnen-Lithographiesystem mit geladenem Teilchenstrahl
摘要
申请公布号 DE19934049(C2) 申请公布日期 2002.06.13
申请号 DE19991034049 申请日期 1999.07.16
申请人 ADVANTEST CORP., TOKIO/TOKYO 发明人 SAKAZAKI, TOMOHIRO;TAKIGAWA, MASAMI
分类号 G21K5/04;G03F7/20;H01J37/147;H01J37/30;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):H01J37/30;H01J37/302 主分类号 G21K5/04
代理机构 代理人
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