| 摘要 |
<p>EUV-Lithographiegeräte weisen zwar in ihrem Inneren ein Vakuum oder eine Inertgasatmosphäre auf, es läßt sich aber nicht völlig verhindern, daß sich auch Kohlenwasserstoffe und/oder sonstige Kohlenstoffverbindungen innerhalb des Gerätes befinden. Diese Kohlenstoffverbindungen führen zur Kontamination der optischen Elemente, die dadurch an Reflektivität verlieren. Um dem entgegenzuwirken, wird vorgeschlagen, während des Betriebes des EUV-Lithographiegerätes kontinuierlich den Kontaminationsgrad festzustellen, z.B. mittels Quarzkristallmikrowaagen. In Abhängigkeit vom Kontaminationsgrad wird dem Inneren des Lithographiegerätes Sauerstoff zugeführt. Der Sauerstoff in Verbindung mit der Belichtungsstrahlung baut die Kontamination während des Betriebes des Lithographiegerätes wieder ab. Das EUV-Lithographiegerät ist dazu mit mindestens einer Messeinrichtung (3) und einer damit verbundenen Kontroll- und Steuereinrichung (4) ausgerüstet, die ihrerseits mit einer Sauerstoffzufuhr (5a) verbunden ist. <IMAGE></p> |
