发明名称 | 用于半导体器件的超净室 | ||
摘要 | 一种超净室1,包括一个设备安装区域3(3a至3h),在其中安装有用于处理要被处理的物件的设备;一个处理区域4,在其中所述物件被装载到设备中或从设备卸下;和一个操作区域2,在其中操作设备。设备安装区域3、处理区域4和操作区域2按上述次序水平地布置并且由隔板42和43相互分隔。这些区域3、4和2是相互独立地进行空气调节的。于是,超净室1可防止物件的污染并且降低超净室中的化学过滤器的运作成本。 | ||
申请公布号 | CN1353233A | 申请公布日期 | 2002.06.12 |
申请号 | CN01137431.4 | 申请日期 | 2001.11.08 |
申请人 | 夏普公司 | 发明人 | 中川敏明 |
分类号 | E04H1/12 | 主分类号 | E04H1/12 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张志醒 |
主权项 | 1.一种超净室,包括:一个设备安装区域,在其中安装有用于处理要被处理的物件的设备;一个处理区域,在其中要被处理的物件被装载到所述设备中或从所述设备卸下;和一个操作区域,在其中操作设备,其中,所述设备安装区域、所述处理区域和所述操作区域按上述次序如此水平地布置,使得由隔板而被相互分隔,并且,其中,所述设备安装区域、所述处理区域和所述操作区域是相互独立地进行空气调节的。 | ||
地址 | 日本大阪市 |