| 主权项 |
1.一种收集粉尘之装置,该装置包含:表面积收集器,其具有一组多个收集表面排列成形成一个槽室;一个表面具有开孔;以及燃烧器与该开孔连通,其中燃烧器放置将使得槽室中所收集之粉尘并不会受到后续沉积粉尘影响。2.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步包含:前身产物传送系统以传送前身产物至燃烧器以产生粉尘,该前身产物由氟、锗、钛、铝、磷、稀土元素、硫、锆、及组合物中选取出。3.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步包含:前身产物传送系统以传送前身产物至燃烧器以产生粉尘,该前身产物由金属、金属氧化物、非金属氧化物、及其组合物选取出。4.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步包含:前身产物传送系统以传送液态燃料至燃烧器以产生颗粒材料及传送喷雾化气体作为将液体燃料喷雾为颗粒材料。5.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步包含:前身产物传送系统以传送气体之燃料至燃烧器以产生粉尘。6.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步包含:前身产物传送系统以传送前身产物至燃烧器以产生颗粒材料,该前身产物包含氟。7.依据申请专利范围第6项之装置,其中存在于粉尘中氟重量百分比藉由流到燃烧器之氟流量加以控制。8.依据申请专利范围第6项之装置,其中收集粉尘含有至少5%重量比氟。9.依据申请专利范围第6项之装置,其中收集粉尘含有至少10%重量比氟。10.依据申请专利范围第6项之装置,其中更进一步包含:前身产物传送系统以传送液态燃料至燃烧器以产生颗粒村料及以传送全氟化合物作为将液态燃料喷雾化为颗粒材料。11.依据申请专利范围第10项之装置,其中液态燃料包含八甲基环四矽氧烷。12.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步包含:基体位于槽室内;以及至少一个磁力产生器以导引粉尘以沉积于基体上。13.依据申请专利范围第12项之装置,其中磁力产生器包含永久性磁铁放置相邻于基体以导引粉尘以沉积于基体上。14.依据申请专利范围第12项之装置,其中磁力产生器包含电磁铁放置相邻于基体以导引粉尘以沉积于基体上。15.依据申请专利范围第12项之装置,其中磁力产生器放置于槽室内。16.依据申请专利范围第15项之装置,其中更进一步包含:冷却元件,以至少在粉尘沉积于基体上过程中冷却磁力产生器。17.依据申请专利范围第12项之装置,其中中磁力产生器在槽室外部。18.依据申请专利范围第12项之装置,其中更进一步包含另外一个磁力产生器以导引粉尘由槽室壁板至基体。19.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步包含:接地基体于槽室内,该粉尘对接地基体具有吸引力。20.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步包含:具有导电材料之基体,其对粉尘具有吸引力。21.依据申请专利范围第1项之装置,其中槽室包含烟雾排气以处理燃烧器产生之粉尘。22.依据申请专利范围第1项之装置,其中至少一个表面与燃烧器相切。23.依据申请专利范围第1项之装置,其中槽室包含防热涂膜。24.依据申请专利范围第23项之装置,其中防热涂膜与粉尘相匹配。25.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步包含:传送系统以传送一组多个基体通过收集器,该基体承受所产生之粉尘。26.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步包含:烧结烘箱以烧结收集到粉尘之基体;传送系统将传送基体由收集器至烧结烘箱。27.一种收集粉尘之装置,该粉尘使用于制造光学组件中,其包含:燃烧器,以产生粉尘;基体,以接收所产生之粉尘;以及至少一个磁力产生器以导引粉尘沉积于基体上。28.依据申请专利范围第27项之装置,其中磁力产生器包含永久性磁铁靠近于基体以导引粉尘沉积于基体上。29.依据申请专利范围第27项之装置,其中磁力产生器包含电磁铁靠近于基体以导引粉尘沉积于基体上。30.依据申请专利范围第27项之装置,其中更进一步包含:具有导电性材料之基体使得导电性材料标示出光学路径,当导电性材料充电时该粉尘对基体导电性材料具有吸引力。31.依据申请专利范围第27项之装置,其中更进一步包含:冷却元件,以至少在粉尘沉积于基体上过程中冷却磁力产生器。32.依据申请专利范围第27项之装置,其中更进一步包含:表面积收集器以承接粉尘;以及槽室放置于表面积收集器中以收集粉尘,该粉尘位于槽室内以收集粉尘,槽室放置将使得收集于槽室中粉尘并不会受到后续沉积之粉尘再加热。33.依据申请专利范围第32项之装置,其中槽室包含防热涂膜。34.依据申请专利范围第33项之装置,其中防热涂膜与粉尘相匹配。35.依据申请专利范围第27项之装置,其中磁力产生器包含马达以产生磁力以导引粉尘沉积于基体上。36.一种制造粉尘之方法,该粉尘使用于制造光学组件中,该方法包含下列步骤:藉由具有火焰之燃烧器产生粉尘,该火焰将产生热量;提供所产生之粉尘至表面积收集器;以及收集粉尘于表面积收集器内,该燃烧器放置使得收集于表面积收集器中之粉尘并不会受到燃烧器热量之影响。37.依据申请专利范围第36项之方法,其中更进一步包含:直接地燃烧至少一种液态材料以产生粉尘。38.依据申请专利范围第36项之方法,其中更进一步包含下列步骤:传送燃料至燃烧器以产生粉尘,该燃料由氟、锗、钛、铝、磷、稀土元素、硫、锆、及组合物中选取出。39.依据申请专利范围第36项之方法,其中更进一步包含下列步骤:传送液体燃料至燃烧器以产生粉尘以及传送喷雾化气体作为将液体燃料喷雾为粉尘。40.依据申请专利范围第36项之方法,其中更进一步包含下列步骤:传送气体燃料至燃烧器以产生粉尘。41.依据申请专利范围第36项之方法,其中更进一步包含下列步骤:传送燃料至燃烧器以产生粉尘,该燃料包含氟。42.依据申请专利范围第41项之方法,其中更进一步包含下列步骤:控制流到燃烧器之氯气流量以在粉尘中建立预先选择重量百分比之氟。43.依据申请专利范围第36项之方法,其中收集粉尘包含至少5%重量比氟。44.依据申请专利范围第36项之方法,其中收集粉尘包含至少10%重量比氟。45.依据申请专利范围第36项之方法,其中与燃烧器之温度大于100℃,其中在表面积收集器内温度小于500℃。46.依据申请专利范围第36项之方法,其中燃烧器产生火焰,该方法更进一步包含下列步骤:在距离火焰预先决定距离处沉积粉尘于表面积收集器内。47.依据申请专利范围第46项之方法,其中在槽室内粉尘沉积之位置在距离火焰大于6英寸处。48.依据申请专利范围第46项之方法,其中在槽室内粉尘沉积之位置在距离火焰大于12英寸处。49.依据申请专利范围第46项之方法,其中更进一步包含下列步骤:提供内部屏蔽开口以处理喷雾化材料将有机金属液体喷雾化。50.依据申请专利范围第46项之方法,其中更进一步包含下列步骤:提供全氟化合物将有机金属液体喷雾化。51.依据申请专利范围第46项之方法,其中更进一步包含下列步骤:提供CF4以及氧气混合物将有机金属液体喷雾化。52.依据申请专利范围第36项之方法,其中更进一步包含下列步骤:提供粉尘于表面积收集器壁板上。53.依据申请专利范围第36项之方法,其中更进一步包含下列步骤:提供粉尘于表面积收集器地板上。54.依据申请专利范围第36项之方法,其中更进一步包含下列步骤:提供基体于表面积收集器内;以及产生磁力以导引粉尘沉积于基体上。55.依据申请专利范围第54项之方法,其中更进一步包含下列步骤:使用永久性磁铁放置相邻于基体以导引粉尘沉积于基体上。56.依据申请专利范围第54项之方法,其中更进一步包含下列步骤:提供电磁铁放置相邻于基体以导引粉尘沉积于基体上。57.依据申请专利范围第54项之方法,其中更进一步包含下列步骤:产生磁力于表面积收集器内以导引粉尘沉积于基体上。58.依据申请专利范围第57项之方法,其中产生磁力之磁力产生器更进一步包含下列步骤:至少在粉尘沉积于基体上过程中冷却磁力产生器。59.依据申请专利范围第54项之方法,其中更进一步包含下列步骤:在表面积收集器外侧产生磁力。60.依据申请专利范围第54项之方法,其中更进一步包含下列步骤:产生静电力量以导引粉尘至基体上。61.依据申请专利范围第36项之方法,其中更进一步包含下列步骤:将基体接地放置于表面积收集器内;以及吸引粉尘至接地基体。62.依据申请专利范围第36项之方法,其中更进一步包含下列步骤:提供具有导电性材料之基体,使得导电性材料包含光学路径,对导电性材料充电使得粉尘吸引至基体之导电性材料。63.依据申请专利范围第62项之方法,其中更进一步包含下列步骤:传送一组多个基体通过收集器,该基体接收所产生之粉尘。64.依据申请专利范围第36项之方法,其中更进一步包含下列步骤:传送一组多个基体通过收集器,传送基体接收所产生之粉尘。65.依据申请专利范围第64项之方法,其中更进一步包含下列步骤:将已收集粉尘之基体烧结。66.一种制造平面基体之方法,其包含下列步骤:使用表面积收集器,其具有一组多个收集表面排列以形成槽室;使用燃烧器以产生粉尘,该燃烧器产生热量;收集所产生粉尘于槽室中使得收集于槽室中粉尘并不会受到后续沉积粉尘再加热;以及传送一组多个基体通过收集器使得基体接收所产生之粉尘。67.依据申请专利范围第66项之方法,其中更进一步包含下列步骤:传送基体由收集器至烧结烘箱;以及将已收集粉尘之基体烧结。68.依据申请专利范围第66项之方法,其中更进一步包含下列步骤:产生磁力以导引粉尘沉积于基体上。69.依据申请专利范围第66项之方法,其中更进一步包含下列步骤:在槽室中收集所产生之粉尘包含至少5%重量比氟。70.依据申请专利范围第66项之方法,其中更进一步包含下列步骤:在槽室中收集所产生之粉尘包含至少10%重量比氟。71.依据申请专利范围第66项之方法,其中更进一步包含下列步骤:收集所产生之粉尘于槽室内使得收集粉尘位于燃烧器距离大于6英寸处。72.依据申请专利范围第66项之方法,其中更进一步包含下列步骤:收集所产生之粉尘于槽室内使得收集粉尘位于燃烧器距离大于12英寸处。73.一种由含有至少5%重量比氟粉尘制造出之光学组件,该光学组件由下列步骤制造出:藉由具有火焰之燃烧器产生粉尘,该火焰将产生热量;提供所产生之粉尘至表面积收集器;以及收集粉尘于表面积收集器内,该燃烧器放置使得收集于槽室中之粉尘并不会受到燃烧器热量之影响。74.依据申请专利范围第73项之光学组件,其中处理过程更进一步包含下列步骤:控制氟流入燃烧器之流量以建立存在于粉尘中氟为预先决定之重量百分比。75.依据申请专利范围第73项之光学组件,其中粉尘含有至少10%重量比之氟。76.依据申请专利范围第73项之光学组件,其中处理过程更进一步包含下列步骤:沉积粉尘于距离火焰为预先决定距离处之表面积收集器内。77.依据申请专利范围第73项之光学组件,其中沉积粉尘于表面积收集器内之位置在距离火焰大于6英寸处。78.依据申请专利范围第73项之光学组件,其中沉积粉尘于表面积收集器内之位置在距离火焰大于12英寸处。79.依据申请专利范围第73项之光学组件,其中燃烧器温度大于1000℃,其中槽室温度小于500℃。图式简单说明:第一图(图1)是本发明用来产生并收集粉尘之优先实施例的侧视图,其中用来协助收集粉压的磁铁配置在本发明之表面积收集器的外面;第二图(图2)是粉尘产生和收集元件另一个实施例的侧视图,其中用来协助收集粉尘的磁铁配置在表面积收集器的里面;第三图(图3)是粉尘产生和收集元件另一实施例的侧视图,在其中使用电磁来协助粉压的收集;第四图(图4)是粉尘产生和收集元件另一个实施例的侧视图,不使用磁铁来协助粉尘的收集;第五图(图5)是含有导电材料之基体的顶视图,用来将粉尘沉积在此导电材料上;第6a-6c图(图6a-6c)指出表面积收集器另一个实施例的图形;第七图(图7)是本发明之波导燃烧器的侧视图;第八图(图8)是指出在表面积收集器中的粉尘收集,和所沉积之氟的重量百分比之间互相关的x-y图形;而第九图(图9)是本发明另一个实施例的侧视图,其中的传送系统将基体传送过表面收集器和烧结烘箱。 |
