| 主权项 |
1.一用来检查平面板显示器之检查系统,其包括了:一反射器;一透过该反射器以照明平面板显示基座之照明器;以及一透过该反射器以检查该平面板显示基座之非扫描式光阵列。2.如申请专利范围第1项之检查系统,其也包括了一影像分析仪以接收该非扫描式光阵列之输出,该影像分析仪用来检测程序缺陷,其至少包括下列其中之一项:不均匀之涂料沉积、不均匀之涂料去除、清洗残渣、化学残渣、存放于基座上之光阻之不完全曝光、抓痕、线条及嵌入基座之颗粒等。3.如申请专利范围第1项之检查系统,其中该光阵列广泛地检视该基座之全部表面。4.如申请专利范围第1项之检查系统,其中该反射器具有单一焦点,且其中适当地安排该反射器及该照明器以使大体平行之光线照明于该平面板显示基座。5.如申请专利范围第1项之检查系统,其中该反射器具有单一焦点,且其中适当地配置及安排该反射器及该非扫描式光阵列使该非扫描式光阵列大体无视差地检视该平面板显示基座。6.如申请专利范围第4项之检查系统,其中适当地配置及安排该反射器及该非扫描式光阵列使该非扫描式光阵列大体无视差地检视该平面板显示基座。7.如申请专利范围第1项之检查系统,其中该反射器剖面为抛物面状。8.如申请专利范围第1项之检查系统,其中该反射器剖面为球面状。9.如申请专利范围第1项之检查系统,更包括一空间置换次系统,当该光阵列检视至少该平面板显示基座的一部分时,其相继变更平面板显示器、反射器、照明器及光阵列中至少两个元件的相对空间关系,以提供该平面板显示基座之预定暗区及亮区照明配置。10.如申请专利范围第9项之检查系统,其中之空间置换次系统包括一空间上可置放之镜台以支撑平面板显示基座且以相对于反射器之不同角度置放此基座。11.如申请专利范围第1项之检查系统,其中该平面板显示基座具有包括空间上周期性特色之表面,且该空间上周期性特色使该照明器供给之照明产生绕射现象。12.如申请专利范围第11项之检查系统,其中适当地配置及安排光阵列、照明次系统、反射器及镜台使其能选择性地检视平面板显示基座以使第零阶绕射照射在非扫描式光阵列上。13.如申请专利范围第11项之检查系统,其中适当地配置及安排光阵列、照明次系统、反射器及镜台使其能选择性地检视平面板显示基座以使只有一非第零阶绕射照射在非扫描式光阵列上。14.如申请专利范围第11项之检查系统,其中适当地配置及安排光阵列、照明次系统、反射器友镜台使其能选择性地检视平面板显示基座以使无任何阶数之绕射照射在非扫描式光阵列上。15.如申请专利范围第13项之检查系统,其中适当地配置及安排光阵列、照明次系统、反射器及镜台使能附加选择性地检视平面板显示基座以使一第零阶绕射照射在非扫描式光阵列上。16.如申请专利范围第13项之检查系统,其中适当地配置及安排光阵列、照明次系统、反射器及镜台使能附加选择性地检视平面板显示基座,以使一非第零阶绕射照射在非扫描式光阵列上。17.如申请专利范围第13项之检查系统,其中适当地配置及安排光阵列、照明次系统、反射器及镜台使能附加选择性地检视平面板显示基座以使大体上无任何阶数之绕射照射在非扫描式光阵列上。18.如申请专利范围第17项之检查系统,其中在给定多个影像下,适当地配置及安排反射器、光阵列及照明次系统使能相继地作出平面板显示基座之像,而在其中至少一影像中,一选定非第零阶绕射照射在光阵列上,在其它影像中,下列绕射中至少一种照射在光阵列上:一第零阶绕射、一额外选定非第零阶绕射、无任何阶数之绕射。19.一种用来检查物件表面的检查系统,其包括:一反射器;一透过该反射器来照射物件表面的照明器;以及一透过该反射器来检视该物件表面的非扫描式光阵列。20.如申请专利范围第19项之检查系统,其中该光阵列大体上检查该表面的全部范围。21.如申请专利范围第19项之检查系统,其中该反射器具有一焦点且其中适当地安排该反射器及该照明器以使大体平行之光线照射该表面。22.如申请专利范围第19项之检查系统,其中该反射器有一焦点且其中适当地配置安排该反射器及该非扫描式光阵列使该非扫描式光阵列大体无视差地检查该表面。23.如申请专利范围第21项之检查系统,其中适当地配置安排该反射器及该非扫描式光阵列使该非扫描式光阵列大体无视差地检查该表面。24.如申请专利范围第19项之检查系统,其中之反射器剖面为抛物面。25.如申请专利范围第19项之检查系统,其中反射器剖面为球面。26.如申请专利范围第19项之检查系统,更包括当光阵列检视至少物件部分表面时相继改变物件表面、反射器、照明器及光阵列以提供物件表面暗区及亮区照明之预设配置之相互空间关系的空间置换次系统。27.如申请专利范围第26项之检查系统,其中之空间置换次系统包括一空间上可置放之镜台以支撑平面板显示基座及以相对于反射器之不同角度置放此基座。28.如申请专利范围第19项之检查系统,其并且也包括了一影像分析仪,以接收该非扫描式光阵列之输出,该影像分析仪用来检测程序缺陷,其至少包括下列其中之一项:不均匀之涂料沉积、不均匀之涂料去除、清洗残渣、化学残渣、抓痕、线条及嵌入基座之颗粒等。图式简单说明:图1是依据本发明一较佳具体实施例构成及运作之检查系统的简化图示说明;图2是用于图1较佳检查系统之投射装置的简化光学设计图;图3是用于如图1第一运作模式下之检视系统较佳照明及影像取得次系统的简化侧视图;图4是图3以第一模式运作之照明及影像取得次系统的简化正视图;图5是图3以第二模式运作之照明及影像取得次系统的简化侧视图;及图6是图3以第三模式运作之照明及影像取得次系统的简化正视图。 |
