| 主权项 |
1.一种基板处理单元,对基板由复数之制程所构成为了实施处理使用于处理装置,而进行前述复数之制程的其中之一处理的基板处理单元,其特征为:在其至少3方向具有开口为了基板之搬入及/或搬出。2.如申请专利范围第1项所记载之基板处理单元,其中前述开口,系被设于其侧面之3方向者。3.一种基板处理系统,其特征系具备有:第1处理装置,沿着搬运路线被配置复数之处理单元在基板实施预定之处理,藉由用以移动搬运路线之搬运装置沿者前述搬运路线对被设置之各处理单元进行基板之搬运,并对基板进行一连串的处理;及第2处理装置,使复数之处理单元依处理顺序被配列在基板用以实施预定之处理,在此等复数之处理单元依顺序用以搬入基板,并对基板进行一连串的处理;而前述第1处理装置及前述第2处理装置,系具有任何可搭载之处理单元,而此等系被构成可替换。4.如申请专利范围第3项所记载之基板处理系统,其中前述任何可搭载之处理单元,系在其至少3方向具有开口为了基板之搬入及/或搬出者。5.如申请专利范围第4项所记载之基板处理系统,其中前述任何可搭载之处理单元,系在其侧面之3方向具有前述开口,而其中2个系被设置成相对置,为了做为前述第2处理装置之搬入及/或搬出的开口被使用,剩余之开口系为了做为前述第1处理装置之搬入及搬出的开口被使用者。6.如申请专利范围第3项至第5项中任何一项所记载之基板处理系统,其中前述任何可搭载之处理单元,系自由装卸者。7.如申请专利范围第3项所记载之基板处理系统,其中前述基板处理系统,系具有液处理单元对基板用以实施液处理及热处理单元用以实施附随于液处理的热处理,而前述任何可搭载之处理单元,系液处理单元及/或热处理单元者。8.一种基板处理装置,具有复数之处理单元在基板用以实施预定之处理的基板处理装置中,其特征为:具有取出机构用以取出处理中之基板。9.一种基板处理装置,具备处理线使复数之处理单元依处理之顺序被配列在基板用以实施预定之处理,在此等复数之处理单元依顺序用以搬入基板,并对基板进行一连串的处理之基板处理装置中,其特征为具备有:取出机构,由前述处理线用以取出基板。10.如申请专利范围第8项或第9项所记载之基板处理装置,系进而具备有基板回收机构藉由前述取出机构用以回收取出后之基板者。11.如申请专利范围第9项所记载之基板处理装置,其中前述取出机构,系具有:基板保持机构,被设置成邻接于预定之处理单元;及切换机构,对前述处理线以选择性用以切换前述预定之处理单元及前述基板保持机构;并使前述基板保持机构定位于处理线用以保持基板,而藉由前述切换装置将保持基板之基板保持机构由前述处理线取出者。12.如申请专利范围第11项所记载之基板处理装置,其中前述基板保持机构,系可搭载基板收容容器用以收容复数之基板,并在该基板收容容器将处理线之基板依顺序可收容者。13.一种基板处理装置,具备处理线使复数之处理单元依处理之顺序被配列在基板用以实施预定之处理,在此等复数之处理单元依顺序用以搬入基板,并对基板进行一连串的处理之基板处理装置中,其特征为具备有:取出机构,由前述处理线用以取出基板;搬运机构,由前述处理线用以接受被取出后之基板,同时沿着前述处理线用以搬运基板;及取入机构,藉由前述搬运机构将被搬运之基板取入到前述处理线。14.如申请专利范围第13项所记载之基板处理装置,其中前述取出机构及取入机构,系分别在前述处理单元间进行基板之取出及取入者。15.如申请专利范围第13项所记载之基板处理装置,其中前述搬运机构,系具有移动台用以保持基板并沿着前述处理线可移动者。16.如申请专利范围第15项所记载之基板处理装置,其中前述取出机构及取入机构,系被设于邻接之前述处理单元间者。17.如申请专利范围第15项所记载之基板处理装置,其中前述取出机构及取入机构,系被设于前述移动台者。18.如申请专利范围第13项所记载之基板处理装置,其中前述搬运机构,系具有移动台用以保持基板并沿着前述处理线可移动,而前述取出机构及取入机构系被设于前述移动台者。19.如申请专利范围第18项所记载之基板处理装置,其中前述取出机构及取入机构,系分别在前述处理单元及/或前述处理单元间进行基板之取出及取入者。20.如申请专利范围第15项至第19项中任何一项所记载之基板处理装置,其中前述移动台,系可搭载基板收容容器用以收容复数之基板,并在该基板收容容器将处理线之基板依顺序可收容者。21.一种基板处理装置,具备处理线使复数之处理单元依处理之顺序被配列在基板用以实施预定之处理,在此等复数之处理单元依顺序用以搬入基板,并对基板进行一连串的处理之基板处理装置中,其特征为具备有:搬运机构,将在处理线之某基板搬运到处理线之任意位置。22.如申请专利范围第21项所记载之基板处理装置,其中前述搬运机构,系具有可驱动之搬运带分别独立被设于各处理单元间者。23.如申请专利范围第22项所记载之基板处理装置,其中前述搬运带系可正反旋转者。24.如申请专利范围第21项所记载之基板处理装置,其中前述搬运机构,系具有夹盘用以把持前述处理线的基板,并沿着前述处理线可移动者。图式简单说明:图1系显示被适用本发明第1实施形态LCD基板之抗蚀涂布显像处理系统之平面图。图2系显示被搭载于图1之抗蚀涂布显像处理系统之加热处理单元(HP的水平剖面图。图3系显示被搭载于图1之抗蚀涂布显像处理系统之加热处理单元(HP)的其他例之水平剖面图。图4系显示被搭载于图1之抗蚀涂布显像处理系统之显像处理单元(DEV)的水平剖面图。图5系显示被搭载于图1之抗蚀涂布显像处理系统之抗蚀处理单元的水平剖面图。图6系显示被搭载于图1之抗蚀涂布显像处理系统之抗蚀处理单元的其他例之水平剖面图。图7系显示被搭载于图1之抗蚀涂布显像处理系统之抗蚀处理单元进而其他例之水平剖面图。图8系显示有关本发明第2实施形态抗蚀涂布显像处理装置之基本构造概略平面图。图9(a),(b)系为了用以说明有关本发明第2实施形态抗蚀涂布显像处理装置之构成要部及动作的模式图。图10系显示有关本发明第2实施形态抗蚀涂布显像处理装置之其他例的要部模式图。图11(a),(b),(c)系为了用以说明有关本发明第3实施形态抗蚀涂布显像处理装置之构成要部及动作的模式图。图12(a),(b),(c)系为了用以说明有关本发明第3实施形态抗蚀涂布显像处理装置之其他例的构成要部及动作之模式图。图13系为了用以说明有关本发明第3实施形态抗蚀涂布显像处理装置进而其他例的构成要部之模式图。图14(a),(b)系显示有关本发明第4实施形态抗蚀涂布显像理装置之构成要部概略平面图及概略侧视图。 |
