| 摘要 |
<p>Eine Reinigungsvorrichtung zum Reinigen eines Polierpads (12) weist ein erstes Reinigungssystem (5) mit einer Schleifscheibe (50) und ein zweites Reinigungssystem (2) mit einem Verteiler (20) zur Abgabe eines Gas-Wasser-Gemischs unter hohem Druck auf. Das auf einem Poliertisch (11) angeordnete Polierpad (12) kann in eine Drehbewegung versetzt werden, so dass die zu reinigenden Oberflächenabschnitte zuerst einer Vorreinigung durch die Schleifscheibe (50) und anschließend einer zweiten Reinigung durch das Gas-Wasser-Gemisch des Verteilers (20) unterzogen werden. (Figur 1 für die Veröffentlichung mit der Zusammenfassung)</p> |
