| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Herstellung eines Koppelgitters (5) für einen Wellenleiter. Das Verfahren nutzt die Technik der Interferenzlithographie, bei der durch Überlagerung zweier kohärenter Lichtbündel (3, 4) auf einer lichtfindlichen Schicht (2) ein Interferenzmuster in diese Schicht (2) belichtet wird. Durch nachfolgende Entwicklung und einen Ätzprozess wird dieses Muster in die Oberfläche des darunter liegenden $Substrates (1) übertragen. Das Verfahren zeichnet sich durch Verwendung einer Schattenmaske (6) aus, die in einem Mindestabstand zur Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht (2) angeordnet wird. Durch Einhaltung des Mindestabstendes werden die Fresnelschen Beugungsbilder der beiden Lichtbündel (3, 4) an der Kante (7) separiert. Die Dicke der lichtempfindlichen Schicht (2) wird derart gewählt, dass die Überlagerung des Fresnelschen Beugungsmusters des einen Lichtbündels mit dem ungestörten, um bei der anschließenden Entwicklung der Schicht (2) Bereiche des Substrates (1) freizulegen. Mit dem Verfahren lässt sich die Übertragung unerwünschter Beugungseffekte an der Kante der Schattenmaske auf das Substrat vermeiden. Das Verfahren stellt eine kostengünstige Lösung zur Herstellung großflächiger Koppelgittermatrizen dar.</p> |
