发明名称 DEPOSITION OF FLUOROSILSESQUIOXANE FILMS
摘要 플루오로기가 실세스퀴옥산 케이지의 실리콘 원자에 결합되어 있는 구조를 가진 플루오로 치환된 실세스퀴옥산 박막의 어레이가 제공된다. 제 1 측면에서, 본 발명은 화학식 [F-SiO][H-SiO](여기서, x+y=n, n은 2 내지 30의 정수, x는 1 내지 n의 정수, y는 0 내지 n의 정수)를 갖는 기화된 물질을 포함하는 조성물을 제공한다. 또한, 이러한 전구체로부터 제조된 막과 이들 막을 포함하는 물건이 제공된다.
申请公布号 KR20020042726(A) 申请公布日期 2002.06.05
申请号 KR20027004976 申请日期 2002.04.18
申请人 发明人
分类号 B05D5/12;B05D7/24;C01B33/113;C07F7/12;C08G77/24;C09D4/00;C09D183/08;C23C16/40;H01L21/312;H01L21/316 主分类号 B05D5/12
代理机构 代理人
主权项
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