发明名称 METHOD AND SYSTEM FOR SELECTIVE LINEWIDTH OPTIMIZATION DURING A LITHOGRAPHIC PROCESS
摘要
申请公布号 EP1210652(A2) 申请公布日期 2002.06.05
申请号 EP20010935527 申请日期 2001.05.16
申请人 SILICON VALLEY GROUP, INC. 发明人 GOVIL, PRADEEP, KUMAR;TSACOYEANES, JAMES
分类号 G03F7/20;G03F7/207;G03F9/00;G03F9/02;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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