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发明名称
Sputtering cathode for substrate deposition in a cathode sputtering apparatus
摘要
申请公布号
EP0493647(B1)
申请公布日期
2002.06.05
申请号
EP19910113004
申请日期
1991.08.02
申请人
UNAXIS DEUTSCHLAND HOLDING GMBH
发明人
KUKLA, REINER;SICHMANN, EGGO, DIPL.-ING.;FRITSCHE, WOLF-ECKART, DIPL.-ING.
分类号
C23C14/35;C23C14/34;H01J37/34;H01L21/203;(IPC1-7):H01J37/32
主分类号
C23C14/35
代理机构
代理人
主权项
地址
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