| 主权项 |
1.一种磁性记录媒体,包括一片基材圆盘,其上方形成一层磁性记录层,该基材圆盘表面上具有多个经由雷射光束聚焦而于基材表面制作纹路形成的显微隆起;其特征为于基材圆盘圆周方向两毗邻显微隆起间距D改变而满足下式(1)1≦[(Dmax-Dmin)/Davg]100(%)≦200 (1)其中Dmax,Dmin及Davg分别为藉一种方法测得于基材圆盘圆周方向两毗邻显微隆起间距D中之最大间距、最小间距及平均间距,该方法中,排除间距D总数具有最大尺寸之2.5%的间距D及间距D总数具有最小尺寸之2.5%的间距D,而Dmax,Dmin及Davg系基于其余间距D总数之95%测量。2.如申请专利范围第1项之磁性记录媒体,其中该显微隆起具有平均直径1至10m,平均高度1至30nm及于基材圆盘圆周方向介于两毗邻显微隆起间之平均间距Davg为1至50m,及占有基材圆盘总表面积之0.1至99.9%。3.如申请专利范围第1或2项之磁性记录媒体,其中于基材圆盘圆周方向介于两毗邻显微隆起之间距D改变而满足下式(3):10≦[(Dmax-Dmin)/Davg]100(%)≦150 (3)其中Dmax,Dmin及Davg定义如申请专利范围第1项。4.一种生产磁性记录媒体之方法,包括雷射光束聚焦供于基材圆盘表面上制作纹路而于圆盘表面上形成多个显微隆起之步骤,其特征为该雷射光束之聚焦方式为基材圆盘圆周方向两毗邻显微隆起间距D改变而满足下式(1):1≦[(Dmax-Dmin)/Davg]100(%)≦200 (1)其中Dmax,Dmin及Davg分别为藉一种方法测得于基材圆盘圆周方向两毗邻显微隆起间距D中之最大间距、最小间距及平均间距,该方法中排除间距D总数具有最大尺寸之2.5%的间距D及间距D总数具有最小尺寸之2.5%的间距D,而Dmax,Dmin及Davg系基于其余间距D总数之95%测量。5.如申请专利范围第4项之生产磁性记录媒体之方法,其中该雷射光束聚焦于该基材圆盘表面上进行之同时,雷射光束之脉冲重覆频率F调变而满足下式(2):0.01≦[(Fmax-Fmin)/Favg]≦100 (2)其中Fmax,Fmin及Favg分别为雷射光束之脉冲重覆频率F之最大値,最小値及平均値。6.如申请专利范围第5项之生产磁性记录媒体之方法,其中该雷射光束聚焦于圆盘表面上进行之同时该基材圆盘及经调变雷射光束之聚焦系统系于基材圆盘之径向方向交互相对运动,及同时基材圆盘系以恒定角速度旋转,或其旋转速度使圆盘表面上聚焦点于基材圆盘圆周方向以恒定线性速度相对于旋转中的基材圆盘运动。7.如申请专利范围第4项之生产磁性记录媒体之方法,其中该雷射光束系通过阻罩上的穿孔透射,然后聚焦于基材圆盘表面上;于阻罩圆周方向介于两毗邻穿孔间距D'改变而满足下式(4):1≦[(D'max-D'min)/D'avg]100(%)≦200 (4)其中D'max,D'min及D'avg为藉一种方法测得于阻罩圆周方向介于两毗邻穿孔间距D'中之最大间距、最小间距及平均间距,该方法中排除具有最大尺寸之间距D'总数之2.5%,具有最小尺寸之间距D'总数之2.5%,而D'max,D'min及D'avg系基于其余间距D'总数之95%测量。8.如申请专利范围第4项之生产磁性记录媒体之方法,其中该雷射光束系由一种光学系统反射,该光学系统具有多面镜于连续改变的反射角工作,而被反射的雷射光束聚焦于基材圆盘表面上,其中该等镜之反射角控制成使隆起间距满足式(1)表示的要求。图式简单说明:第1图是显示「最大隆起间距-最小隆起间距」(纵轴)与平均隆起间距(横轴)之间的关系图;以及第2图是磨擦力(纵轴)与「(最大隆起间距-最小隆起间距)/平均隆起间距」 (横轴)之间的关系图。 |
