三芳基–1,3,5–三紫外光吸收物

摘要

本发明系有关一种醯胺基或胺基甲酸酯取代之三芳基-1，3，5-三及其用以抗环境因素包含紫外光、光化辐射、氧化作用、湿气、大气污染物及其组合免受降解作用之用途。此新一类之三芳基-1，3，5-三包括连接至三环之芳基环(且较好为在对连接至三环之位置为邻位上含有游离羟基或经封阻形成潜在安定剂之羟基之芳基环)，其在对连接至三环之位置为对位上经含可键结醯胺基/胺基甲酸酯之基取代。该等物质在适宜环境下，可经由可键结官能度与配方材料反应而键结至包含涂料、聚合物、树脂、有机化合物等之配方中。亦揭示一种安定物质之方法，系并入此种醯胺基或胺基甲酸酯取代之三芳基-1，3，b-三。

主权项

1.一种式(I)之化合物: 其中X系氢; Y及Z各独立选自通式(IV)之芳基环: R1.R4.R4'及R4"各系氢; R2及R3各独立选自氢及甲基; 其特征在于R系选自下列通式(V)(醯胺基)及(VI)(胺 基甲酸酯基)之基: 其中Q系O; R5系选自化学键及伸烃基; R8系伸烃基; R6及R7各独立选自烃基及官能性烃基,其中R6及R7之 至少一个为官能性烃基; 各R9系选自氢、烃基及官能性烃基。2.根据申请专 利范围第1项之化合物,其中R为通式(V)之基,及(i)R6 及R7各独立选自含1至50个碳原子之烃基及含1至50 个碳原子之官能性烃基之组群,但至少一个R6及R7 为官能性烃基。3.根据申请专利范围2项之化合物, 其中至少一个R6及R7为带有侧链及/或终端反应性 及/或潜在反应性官能度及/或离去基之官能性烃 基。4.根据申请专利范围第3项之化合物,其中至少 一个R6及R7为带有选自羟基、-COOR11.-CR12=CH2.-CO-CR12= CH2.-OCO-CR12=CH2.-OCO-NH-R9.Cl、 异氰酸酯基、封阻异氰酸酯基及-NHR11之组群之侧 链及/或终端基, 其中R11系选自氢及烃基之组群;及 R12系选自氢及含1至4个碳原子之烷基。5.根据申请 专利范围第4项之化合物,其中4-位置-OR基之至少一 个R基系选自下列之组群: 其中n为1至24,n1为0-23,n2为1-24,n3为1-24,及R12系选自 氢及含1至4个碳原子之烷基之组群。6.根据申请专 利范围第1项之化合物,其中R系通式(VI)之基,及R9系 选自氢、含1至50个碳原子之烃基及含1至50个碳原 子之官能性烃基之组群。7.根据申请专利范围第6 项之化合物,其中4-位置-OR基之至少一基系选自下 列组群: 其中n为1-24及n1为0-23。8.根据申请专利范围第1项 之化合物,具有通式(VII)、(VIII)或(IX):9.根据申请专 利范围第8项之化合物,其中R为通式(V)之基,及(i)R6 及R7各独立选自含1至50个碳原子之烃基及含1至50 个碳原子之官能性烃基之组群,但至少一个R6及R7 为官能性烃基。10.根据申请专利范围第9项之化合 物,其中至少一个R6及R7为带有侧链及/或终端反应 性及/或潜在反应性官能度及/或离去基之官能性 烃基。11.一种制备根据申请专利范围第1项之下式 三芳基-1,3,5-三之方法: 其中n为1-20之制数;包括使下式化合物: 其中R"为烃基及n为1-20之整数;与下式化合物反应: 而形成该化合物。12.一种制备根据申请专利范围 第1项之下式化合物之方法: 包括使下式化合物: R9-NCO 与下式化合物反应: 而形成该化合物。13.一种制备根据申请专利范围 第1项之下式化合物之方法: 包括使选自下列之化合物: 与下式化合物反应: 而形成该化合物。